[發(fā)明專利]成像設(shè)備的位置校準和誤差補償裝置及其補償方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310396578.9
• 申請日: 2013-09-04
• 公開（公告）號: CN104414662B
• 公開（公告）日: 2017-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黎維娟;安陸軍
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇瑞爾醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 蘇州華博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司32232
• 代理人: 傅靖

1.成像設(shè)備的位置校準和誤差補償裝置，其特征在于，包括：

兩個平板探測器，兩個所述平板探測器呈一角度相對設(shè)置；

X射線發(fā)生器，用于產(chǎn)生高壓電場及x射線管燈絲電流，并且用于控制X能量參數(shù)；

兩個X射線管，用于產(chǎn)生X射線，兩個所述x射線管分別對應(yīng)設(shè)于兩個所述平板探測器的一側(cè)，所述兩個X射線管發(fā)射的X射線交叉形成一個交點；

校準桿裝置，包括用于標記所述交點的校準球和用于安裝所述校準球的校準桿；

處理裝置，用于對所述校準桿裝置進行X-ray圖像的采集和處理；

控制裝置，用于控制平板探測器、X射線發(fā)生器以及X射線管的相對位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像設(shè)備的位置校準和誤差補償裝置，其特征在于，所述校準桿頂端設(shè)為圓錐狀，所述校準球設(shè)于所述校準桿頂端的錐尖處。

3.成像設(shè)備的位置校準和誤差補償裝置的補償方法，其特征在于，采用如權(quán)利要求1所述的裝置，所述補償方法包括以下步驟：

步驟1.安裝所述校準桿裝置,并且使所述校準球位于所述交點處；

步驟2.設(shè)定所述X射線發(fā)生器的X能量參數(shù)使其激發(fā)所述X射線管向所述平板探測器發(fā)射X射線；

步驟3.通過所述處理裝置采集并預(yù)處理一組所述校準桿裝置的第一X-ray圖像，將所述第一X-ray圖像作為配準的參考圖像；

步驟4.拆除所述校準桿裝置，并且重復(fù)步驟1-2；

步驟5.再次通過所述處理裝置采集并預(yù)處理一組所述校準桿裝置的第二X-ray圖像，將所述第二X-ray圖像作為第一浮動圖像；

步驟6.通過處理裝置將所述參考圖像與所述第一浮動圖像進行配準計算，得到一組補償二維圖像偏移值（△XA、△YA）和（△XB、△YB）；

步驟7.通過處理裝置將所述補償二維圖像偏移值轉(zhuǎn)換成三維偏移值，即為補償定位中心點偏移值（△X、△Y、△Z）；

步驟8.通過處理裝置判定上述補償定位中心點偏移值各維度的絕對值是否同時小于設(shè)定的誤差最大允許值，若不滿足，則根據(jù)所述補償定位中心點偏移值通過控制裝置微調(diào)所述X射線管和所述平板探測器的位置，重復(fù)步驟1-8；若滿足，重復(fù)至少四次步驟3～步驟8；

步驟9.通過處理裝置計算步驟8所得的至少四組所述補償二維圖像偏移值（△XA、△YA）和（△XB、△YB）的平均值，得到平均值為（△XA_mean、△YA_mean）和（△XB_mean、△YB_mean），并計算上述步驟7獲得的所述補償定位中心點偏移值的平均值，得到平均值為（△Xmean、△Ymean、△Zmean）；

步驟10.將上述平均值（△XA_mean、△YA_mean）、（△XB_mean、△YB_mean）和（△Xmean、△Ymean、△Zmean）作為誤差補償值，通過處理裝置載入所述控制裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的補償方法，其特征在于，所述步驟3中的預(yù)處理包括以下步驟：

步驟ⅰ.通過處理裝置去除所述步驟3采集的所述X-ray圖像的背景；

步驟ⅱ.平移所述X-ray圖像使所述校準球的中心在所述X-ray圖像的中心點，通過處理裝置存儲平移后的所述X-ray圖像，將存儲的所述平移后的所述X-ray圖像作為配準的參考圖像。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的補償方法，其特征在于，所述誤差最大允許值為3mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的補償方法，其特征在于，所述步驟8中重復(fù)六次上述步驟3～步驟8，則所述步驟9中計算六對所述補償二維圖像偏移值的平均值。