[發明專利]一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器

有效

• 申請號: 201310396362.2
• 申請日: 2013-09-03
• 公開（公告）號: CN103663692A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 金仁村;張倩倩;楊畢娥;張正哲;周煜煌
• 申請（專利權）人: 杭州師范大學
• 主分類號: C02F3/30
• 分類號: C02F3/30
• 代理公司: 杭州天正專利事務所有限公司 33201
• 代理人: 王兵;黃美娟

1.一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，包括反應器本體、底座和支架，所述的反應器本體固定于所述的底座上，其特征在于：所述的反應器本體內自中心向周邊設置有中心短程硝化單元和周邊厭氧氨氧化單元；

所述的中心短程硝化單元自下而上分為出水區、反應區以及第一進水區，所述的出水區兩側與周邊厭氧氨氧化單元之間設有底部帶有中格柵的第一擋板，所述的第一擋板固定于所述的反應器本體上；所述的反應區內設置有輕質載體且所述的反應區的底端設有曝氣頭，所述的曝氣頭通過一貫通所述的中心短程硝化單元的第一進水區及反應區的中空曝氣導引管與曝氣管相連，所述的中空曝氣導引管通過緊固件固定于反應器底座的支架上；所述的第一進水區上方設有與進水管連接的布水器；

所述的周邊厭氧氨氧化單元自內向外分為第二進水區、反應一區、銜接區及反應二區，所述的反應一區與所述的銜接區之間設置有頂部帶有中格柵的第二擋板，所述的第二進水區與短程硝化單元的出水區之間設置有底部帶有中格柵的第一擋板；所述的反應二區上端設有沉淀區，所述的反應二區與沉淀區之間設置有底部帶有中格柵的第一擋板，所述的沉淀區側壁設有溢流堰和出水口，所述的出水口與出水管相連；所述的反應二區右側底端設有排泥口，所述的排泥口上設置有控制其開閉的閥門；所述的周邊厭氧氨氧化單元的頂部設有排氣口。

2.如權利要求1所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的中心短程硝化單元的出水區、反應區以及第一進水區均呈圓柱形，上述各部分的高徑比均為2～5：1。

3.如權利要求2所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的周邊厭氧氨氧化單元的第二進水區、反應一區、銜接區及反應二區均呈圓柱形，上述各部分的半徑比分別為1:1.2～1.4:1.3～1.5:1.5～1.7。

4.如權利要求3所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的中心短程硝化單元的出水區與反應區之間以曝氣頭下端為界，所述的反應區與第一進水區以進水液面為界。

5.如權利要求4所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的第一擋板和第二擋板的寬度與反應器本體的內徑比均為：1～1.5：10，格柵間隙均為10～40mm，格柵高度占第一擋板總長的比例均為：10～20%。

6.如權利要求5所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的輕質載體相對于水而言的比重為0.5～0.95。

7.如權利要求6所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的布水器距第一進水區上液面距離為0.1～0.3m。

8.如權利要求7所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的溢流堰距反應器本體圓柱體部分下端水平面距離與反應器本體圓柱體部分高之比為1:4～10；所述的溢流堰高度與反應器本體圓柱體部分高之比為1:10～15；所述的出水口內徑與反應器本體圓柱體部分內徑之比為1:8～15。

9.如權利要求8所述的一種一體化短程硝化/厭氧氨氧化反應器，其特征在于：所述的排泥口內徑與反應器本體圓柱體部分內徑之比為1:8～10；所述的排氣口內徑與反應器本體圓柱體部分內徑d2之比為1:8～10。