[發(fā)明專利]成像設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310396078.5
• 申請日: 2013-09-04
• 公開（公告）號: CN103685910A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 赤松范彥;中村真彥;小森賢二
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號: H04N5/232
• 分類號: H04N5/232;H04N9/04;G02B7/34;G03B13/36
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 吳信剛

技術(shù)領(lǐng)域

本技術(shù)涉及成像設(shè)備。

背景技術(shù)

在現(xiàn)有技術(shù)的單鏡頭反射式照相機(jī)中，安裝所謂的專用相位差傳感器來實(shí)現(xiàn)快速自動聚焦。另一方面，小型化照相機(jī)、無反射鏡照相機(jī)等通常利用對比度檢測自動聚焦（在下文中稱為AF）系統(tǒng)。另外，為了在這種照相機(jī)中實(shí)現(xiàn)快速AF，已經(jīng)提出了把用于相位差檢測的圖像傳感器嵌入另一個圖像傳感器中的方法（參考日本未審專利申請公報No.2000-156823）。

此外，為了使用上述技術(shù)獲得專用相位差檢測模塊（在下文中被稱為專用AF傳感器）和相位差檢測像平面?zhèn)鞲衅鳎ㄔ谙挛闹斜环Q為像平面AF傳感器）兩者的優(yōu)點(diǎn)，還提出了安裝這兩種傳感器的方法。

發(fā)明內(nèi)容

在安裝有專用AF傳感器和像平面AF傳感器二者的這種成像設(shè)備中，尤其在強(qiáng)逆光狀態(tài)下，在拍攝期間在專用AF傳感器上反射的不需要的光入射在圖像傳感器上，這會負(fù)面地影響拍攝和焦點(diǎn)檢測。

希望提供一種可以在安裝了專用AF傳感器和像平面AF傳感器二者的配置中防止逆光狀態(tài)負(fù)面地影響圖像傳感器的成像設(shè)備。

根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例，提供一種成像設(shè)備，該成像設(shè)備包括：第一焦點(diǎn)檢測單元，該第一焦點(diǎn)檢測單元被設(shè)置在圖像傳感器中，并且通過感測經(jīng)過拍攝透鏡的被攝體像光來輸出用于相位差焦點(diǎn)檢測的信號；以及第二焦點(diǎn)檢測單元，該第二焦點(diǎn)檢測單元被設(shè)置為位于圖像傳感器的上方，并且通過感測經(jīng)過拍攝透鏡的被攝體像光來輸出用于相位差焦點(diǎn)檢測的信號。

根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例，可以防止在安裝了專用AF傳感器和像平面AF傳感器二者的配置中逆光狀態(tài)對圖像傳感器的負(fù)面影響。

附圖說明

圖1是圖示根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的成像設(shè)備的概略配置的示意截面圖；

圖2是圖示圖像傳感器的配置的示圖；

圖3A是在沒有不需要的入射光時的相位差焦點(diǎn)檢測的輸出的例子的示圖，圖3B是在有不需要的入射光時的相位差焦點(diǎn)檢測的輸出的例子的示圖；

圖4是圖示根據(jù)本技術(shù)的成像設(shè)備的概略配置的示意截面圖；

圖5是圖示在拍攝畫面上的像平面AF區(qū)域和專用AF區(qū)域的布置的示圖；

圖6是圖示根據(jù)本技術(shù)的成像設(shè)備的配置的框圖；

圖7是用于描述像平面AF區(qū)域的配置的示圖；

圖8是用于描述像平面AF區(qū)域的另一配置的示圖；

圖9A、9B、9C和9D是用于描述第一實(shí)施例中的處理的概要的示圖；

圖10A、10B、10C和10D是用于描述第一實(shí)施例中的另一處理的概要的示圖；

圖11是用于描述第一實(shí)施例中的另一處理的概要的示圖；

圖12是用于描述第一實(shí)施例中的這些處理的總流程圖；

圖13是用于描述第一實(shí)施例中的散焦量選擇處理的流程圖；

圖14是用于描述穩(wěn)定化處理的流程圖；

圖15是用于描述第一實(shí)施例中的像平面散焦量決定處理的流程圖；

圖16是用于描述先前決定像平面散焦量確定處理的流程圖；

圖17是用于描述像平面散焦量校正處理的流程圖；

圖18是用于描述像平面散焦量校正處理的流程圖；

圖19是圖示根據(jù)本技術(shù)的第二實(shí)施例的成像設(shè)備的配置的框圖；

圖20A、20B、20C和20D是用于描述第二實(shí)施例中的處理的概要的第一例子的示圖；

圖21A、21B、21C和21D是用于描述第二實(shí)施例中的處理的概要的第二例子的示圖；

圖22是用于描述第一實(shí)施例中的另一散焦量選擇處理的流程圖；

圖23是用于描述第一實(shí)施例中的散焦量選擇處理的流程圖；以及

圖24是用于描述第二實(shí)施例中的像平面散焦量決定處理的流程圖。

具體實(shí)施方式

在下文中，將參照附圖詳細(xì)地描述本公開的優(yōu)選實(shí)施例。請注意，在本說明書和附圖中，具有基本上相同的功能和結(jié)構(gòu)的構(gòu)成要素用相同的附圖標(biāo)記表示，并且省略這些構(gòu)成要素的重復(fù)說明。

在下文中，將參照附圖描述本技術(shù)的實(shí)施例。請注意，將按照下述順序提供描述。

<1.實(shí)施例>

[1-1.現(xiàn)有技術(shù)的成像設(shè)備的配置]

[1-2.根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例的成像設(shè)備的配置]

<2.成像設(shè)備中的處理的第一實(shí)施例>

[2-1.成像設(shè)備的配置]

[2-2.處理的概要]

[2-3.散焦量選擇處理]

[2-4.像平面散焦量決定處理]