[發明專利]一種反射式分光光柵及干涉光刻系統

有效

• 申請號: 201310395380.9
• 申請日: 2013-09-03
• 公開（公告）號: CN103424795A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 胡進;浦東林;陳林森
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 唐靈;常亮

1.一種反射式分光光柵，其特征在于：包括位于反射面的光柵槽形區和位于該光柵槽形區外圍的阻光區，所述光柵槽形區包括周期性分布的光柵結構，該光柵結構具有槽形反射面和非反射區，所述槽形反射面與光柵基面之間形成一斜角。

2.如權利要求1所述的反射式分光光柵，其特征在于：所述槽形反射面與所述光柵結構的占空比為0.6-0.8。

3.如權利要求1所述的反射式分光光柵，其特征在于：所述槽形反射面與所述光柵結構的占空比為

4.如權利要求1所述的反射式分光光柵，其特征在于：所述非反射區為深溝結構，其深度大于所述槽形反射面的最大深度。

5.如權利要求1所述的反射式分光光柵，其特征在于：所述阻光區上設有阻光材料。

6.如權利要求1所述的反射式分光光柵，其特征在于：所述周期性分布的光柵結構為一維光柵或二維光柵。

7.一種干涉光刻系統，包括光源、分束器件、投影光學鏡組和載物平臺，其特征在于：所述分束器件為權利要求1至6所述的反射式分光光柵，所述光源發射的光線截面大于所述反射式分光光柵的光柵槽形區尺寸。

8.如權利要求7所述的干涉光刻系統，其特征在于：所述光源發射的光線入射到所述反射式分光光柵的反射面上，該光線的入射方向與所述光柵基面形成入射角，所述入射角與所述斜角之間滿足如下的關系：

[sin(θ)-sin(θ-2γ)]d/λ＝N+1/2，

其中，θ為入射角，γ為斜角，N為自然數。

9.如權利要求7所述的干涉光刻系統，其特征在于：所述投影光學鏡組包括至少兩組透鏡組，該些透鏡組組成成像光路，所述反射式分光光柵形成該成像光路的物面，所述載物平臺上放置一工件，該工件表面形成該成像光路的像面。