[發明專利]數字光刻微雕的制作裝置及其雕刻制作方法

無效

• 申請號: 201310395073.0
• 申請日: 2013-09-03
• 公開（公告）號: CN103472683A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 龔勇清;蘇兆國;周張鈺;龔藝川;田紅彥;高益慶;羅寧寧;方利華;徐冉冉
• 申請（專利權）人: 南昌航空大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 南昌洪達專利事務所 36111
• 代理人: 劉凌峰

1.一種數字光刻微雕的制作裝置，它包括紫光半導體激光器、反射鏡、擴束鏡、準直透鏡、光束提升器、數字微鏡器件、縮微物鏡、光刻膠版、三維精密電控平移臺和計算機，其特征在于數字微鏡器件連接計算機，計算機將圖形或文字輸送到數字微鏡器件，并使得圖像或文字在數字微鏡器件和計算機上的分辨率一致，通過三維精密電控平移臺控制各個部件的位置，使得從紫光半導體激光器發射的激光束先通過反射鏡反射，然后經過擴束鏡和準直透鏡后，照射到一個光束提升器上，光束提升器使準直后的激光束與數字微鏡器件的平面法線成20°角入射，從數字微鏡器件發出的+1級的出射光作為物光波，它經過與其同軸的縮微物鏡后，照射到光刻膠版上，使得數字微鏡器件上的圖形或文字在光刻膠版上形成“潛像”。

2.如權利要求1所述的一種數字光刻微雕的制作裝置，其特征在于所述的縮微物鏡倍率為10～20倍縮微物鏡。

3.如權利要求1所述的一種數字光刻微雕的制作裝置，其特征在于所述數字微鏡器件由若干鋁質反射鏡片緊密排列組成，并且相互之間有間隔。

4.一種數字光刻微雕的制作裝置的雕刻制作方法，其特征在于所述雕刻制作方法包括以下步驟：基片預處理→旋轉涂膠→前烘→曝光→后烘→顯影→堅膜→鉻版刻蝕→玻璃刻蝕→去膠→二次鉻刻蝕→微雕成品。