[發(fā)明專利]鈦及鈦合金表面自潤滑耐磨涂層的制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310394592.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103498181A | 公開(公告)日: | 2014-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙暉;王小輝;李玉海 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 沈陽理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C25D11/26 | 分類號(hào): | C25D11/26 |
| 代理公司: | 沈陽利泰專利商標(biāo)代理有限公司 21209 | 代理人: | 李樞 |
| 地址: | 110159 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鈦合金 表面 潤滑 耐磨 涂層 制備 方法 | ||
1.一種鈦及鈦合金表面自潤滑耐磨涂層的制備方法,其特征在于包括下述工藝步驟:
(1)打磨鈦及鈦合金合金部件表面,除去表面的大尺寸缺陷;
(2)將經(jīng)過步驟(1)處理的鈦合金部件表面清洗,除去油污、雜質(zhì);
(3)將經(jīng)過步驟(2)處理的部件表面進(jìn)行微弧氧化處理,制備高硬度、孔徑小、孔隙率高的陶瓷涂層;
(4)向經(jīng)過充分干燥的陶瓷涂層微孔中引入四氟乙烯聚合物;
(5)通過熱處理,使聚合物充分固化與陶瓷涂層熔為一體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦及鈦合金表面自潤滑耐磨涂層的制備方法,其特征在于:上述步驟(1)中采用砂輪、砂紙方式打磨;步驟(2)鈦及鈦合金表面的清洗采用熱堿、有機(jī)溶液或超聲波;步驟(3)采用脈沖微弧氧化工藝,電解液采用磷酸鹽、硅酸鹽或偏鋁酸鹽溶液;步驟(4)主要是采用聚四氟乙烯的高溫水溶液熱浸的方式引入陶瓷膜中;步驟(5)采用熱處理爐加熱至聚四氟乙烯熔點(diǎn),保溫使其充分熔化、浸滲,即得。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦及鈦合金表面自潤滑耐磨涂層的制備方法,其特征在于其包括下述工藝步驟:
(1)采用粒度600目以內(nèi)砂紙或砂輪打磨鈦及鈦合金部件表面,除去表面的大尺寸缺陷,保證處理表面的精度;
(2)采用含氫氧化鈉30~40g/L,碳酸鈉20~30g/L,硅酸鈉10~15g/L的化學(xué)溶液,在50~70℃充分清洗鈦及鈦合金10~15min;或在超聲波作用下采用丙酮清洗3min,取出,流水沖洗,烘干;
(3)采用醋酸鈉-硅酸鈉系,或磷酸-硅酸鈉系電解液,將步驟(2)處理的部件表面進(jìn)行微弧氧化處理,制備出陶瓷涂層;處理參數(shù)為:電流密度1A/dm2~5A/dm2,電壓300V~600V,占空比20~50%,溫度0~60℃,頻率700~900Hz;
(4)將經(jīng)過步驟(3)處理的試樣烘干,浸入50~70℃、50~80g/L的聚四氟乙烯溶液中,保持30min,取出,晾干;
(5)采用熱處理爐,將熱浸過聚四氟乙烯的試樣加熱至120℃,保溫15min;再升溫至345℃,保溫30min;最后升溫至375℃,保溫15min;自然冷卻至室溫,即得。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦及鈦合金表面自潤滑耐磨涂層的制備方法,其特征在于:
(1)采用粒度600目砂紙打磨純鈦TA2表面,除去表面的大尺寸缺陷,保證處理表面的精度;
(2)在超聲波作用下,采用丙酮3min,除去油污、雜質(zhì);
(3)采用醋酸鈉-硅酸鈉系電解液,將經(jīng)過步驟(2)處理的部件表面進(jìn)行微弧氧化處理,制備出陶瓷涂層;處理參數(shù)為:電流密度1A/dm2~5A/dm2,電壓350V~500V,占空比20~50%,溫度0~40℃,正、負(fù)脈寬為500μs,脈間為1000μs,處理時(shí)間為5~20min,
(4)浸入50~70℃、50~80g/L的聚四氟乙烯溶液中,保持30min,取出,晾干;
(5)采用熱處理爐,將熱浸過聚四氟乙烯的試樣加熱至120℃,保溫15min;再升溫至345℃,保溫30min;最后升溫至375℃,保溫15min;自然冷卻至室溫。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鈦及鈦合金表面自潤滑耐磨涂層的制備方法,其特征在于:
(1)選用鈦合金TC4,用砂輪打磨,去毛刺、缺陷,保證處理表面的精度;
(2)采用80~100℃熱堿溶液清洗經(jīng)過(1)處理的鈦合金部件表面10min,除去油污、雜質(zhì);
(3)采用磷酸-硅酸鈉系電解液,將經(jīng)過步驟(2)處理的部件表面進(jìn)行微弧氧化處理,制備出陶瓷涂層;處理參數(shù)為:電流密度2A/dm2~10A/dm2,電壓400V~500V,占空比20~50%,溫度0~60℃,正、負(fù)脈寬為500μs,脈間為1000μs,處理時(shí)間為5~30min。
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