[發(fā)明專利]一種低密度高張力的石頭紙及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310394369.0 | 申請日： | 2013-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN103448332A | 公開（公告）日： | 2013-12-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉海國;郭嘉麟;嚴(yán)楊;劉瑞銘;趙華玲 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆明鋼鐵控股有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B27/18;B32B27/32;B29C47/06;B29C55/06 |
| 代理公司： | 昆明知道專利事務(wù)所(特殊普通合伙企業(yè)) 53116 | 代理人： | 姜開俠 |
| 地址： | 650302*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 密度 張力 石頭 及其 制備 方法 | ||
1.一種低密度高張力的石頭紙，其特征在于所述低密度高張力的石頭紙由基層和膜層，所述膜層設(shè)置于基層的兩面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低密度高張力的石頭紙，其特征在于所述的基層為有機發(fā)泡層或非發(fā)泡層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的低密度高張力的石頭紙，其特征在于所述的基層由重量百分比5~10%的聚丙烯樹脂、0~10%的PBT母粒和80~95%的石頭紙專用母粒構(gòu)成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低密度高張力的石頭紙，其特征在于所述的膜層為白色消光層和/或高光亮樹脂層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的低密度高張力的石頭紙，其特征在于所述的白色消光層由重量百分比80~89%的聚丙烯樹脂、10~15%的EMMA母粒和1~5%的TiO2母粒構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的低密度高張力的石頭紙，其特征在于所述的高光亮樹脂層由重量百分比85~90%的聚丙烯樹脂和EMMA母粒。
7.一種權(quán)利要求1~6任一所述的低密度高張力的石頭紙的制備方法，其特征在于包括前處理、制備、冷卻成型、拉伸、后處理步驟，具體包括：
A、前處理：按配方計重稱量，混勻在60~120℃下干燥1~4h；
B、制備：分別在140~270℃下將各混合料熔融塑化擠入模頭上層、中層、下層流道中得到膜層、基層、膜層，將得到的三個膜層再在180~260℃下經(jīng)同一模頭擠出得到三層疊加熔融狀擠出物；
C、冷卻成型：將制備得到的疊加熔融狀擠出物通過15~40℃激冷輥冷卻成型得到膜片；
D、拉伸：將冷卻成型得到的膜片送入設(shè)定溫度在115~140℃的縱向拉伸裝置中，作預(yù)熱、延伸、定型的1~5倍拉伸倍率的縱向拉伸得到目標(biāo)物；
E、后處理：將目標(biāo)物進行厚度測定，然后進行電暈處理，收卷。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低密度高張力的PP石頭紙的制備方法，其特征在于B步驟所述的膜層、基層、膜層的分配比例為1~10:80~99:1~10。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的低密度高張力的石頭紙的制備方法，其特征在于所述的膜層、基層、膜層的最佳分配比例為7.5:85:7.5。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低密度高張力的石頭紙的制備方法，其特征在于E步驟所述的電暈處理是用20~80W功率的高周波放電裝置進行電暈處理。
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