[發明專利]高透明度發電鏡片的制作方法

有效

• 申請號: 201310394169.5
• 申請日: 2013-09-03
• 公開（公告）號: CN103412351A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 張志平;湯峰;歐陽曉勇;張國軍
• 申請（專利權）人: 江蘇萬新光學有限公司
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B1/11
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.高透明度發電鏡片的制作方法，包括以下步驟：其特征在于：

1）、按常規工藝在注塑機上加工出鏡片殼體與鏡片后蓋；

2）、將注塑出的鏡片殼體、鏡片后蓋在超聲波清洗槽中加入清洗劑振動清洗，保持水溫35-45℃，30分鐘后取出，用去離子水洗凈并在60℃烘箱內烘干半小時；

3）、將鏡片殼體、鏡片后蓋正反面在等離子曲面處理機下處理2-3min，活化殼體內外表面，增加鍍膜附著力；

4）、將鏡片殼體、鏡片后蓋固定在掛架上面，浸入二氧化硅加硬液，內提拉法掛涂加硬液，掛涂厚度1-3um，進入電熱烘干隧道中在80-120℃溫度下、時間2小時固化加硬膜層；

5）、將鏡片殼體外側包裹塑膜保護層，放入真空鍍膜機中給鏡片殼體內側蒸鍍二氧化錫膜層，膜層厚度為20-50nm；

6）、將鏡片后蓋外側包裹塑膜保護層，放入真空鍍膜機內，給鏡片后蓋內側蒸鍍三氧化二銦（In₂O₃）膜層，鍍層厚度20-50nm，再鍍二氧化錫（SnO₂）膜層，鍍層厚度為20-50nm；

7）、將鏡片殼體、鏡片后蓋去掉外表面包裹層后扣合為一體，放入真空鍍膜機中蒸鍍殼體前后表面氧化鋯減反射膜層，膜層厚度20-50nm；

8）、在鏡片殼體內側鍍有二氧化錫（SnO₂）導電膜層的表面涂復含有0.15%（TPP）的苯溶液，涂層厚度60-100nm，形成四苯基卟啉（TPP）電子發射層；

9）、將導電銀漿點滴在鏡片殼體與鏡片后蓋內側邊緣的電極壓接處，壓上扁平柔性電極引線，抵接在鏡片后蓋上預留的壓接點，將正負電極引線接觸點與涂抹導電銀漿處壓接牢固，形成可靠電氣連接；

10）、將正二價正三價鐵離子Fe²⁺/?（Fe³⁺）、丙三醇（C₃H₈O₃）和去離子水（H₂O）按1:1：3:95比例配制的凝膠狀電解質，注入鏡片殼體內，注滿后扣合鏡片后蓋，周邊滴膠密封，固化后制成一只完整的高透明度發電鏡片。