[發明專利]陣列基板及其制作方法、3D顯示裝置

有效

• 申請號: 201310392404.5
• 申請日: 2013-09-02
• 公開（公告）號: CN103454807A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 魏偉;武延兵
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1362;G02B27/26
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種陣列基板，包括：襯底基板及位于所述襯底基板上的像素陣列層，其特征在于，還包括：由若干間隔有預定距離的擋光條形成的用于3D顯示的光柵層，所述光柵層位于所述像素陣列層背離所述襯底基板一側，或所述光柵層位于所述襯底基板面向所述像素陣列一側，或所述光柵層位于所述襯底基板背離所述像素陣列一側，所述擋光條用于將通過所述襯底基板射向所述像素陣列層的光線反射。

2.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述像素陣列層包括像素電極層和位于所述像素電極層背離所述襯底基板一側的取向層，所述光柵層位于所述像素陣列層背離所述襯底基板一側具體為：所述光柵層位于所述像素電極層和取向層之間。

3.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述光柵層位于所述襯底基板背離所述像素陣列層一側，所述擋光條包括：遮光層和反光層，所述遮光層位于襯底基板和所述反光層之間，且所述反光層在所述襯底基板上的投影被所述遮光層在所述襯底基板上的投影覆蓋。

4.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述擋光條由反光材料制成。

5.如權利要求1～4中任一項所述的陣列基板，其特征在于，還包括：位于所述擋光條背離所述像素陣列層一側的偏光片。

6.如權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，還包括：位于所述襯底基板背離所述像素陣列層一側的偏光片，所述光柵層位于所述襯底基板背離所述像素陣列層一側具體為：所述光柵層位于所述偏光片背離所述像素陣列層的一側。

7.如權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述擋光條包括：遮光層和反光層，所述遮光層位于所述偏光片和所述反光層之間，且所述反光層在所述襯底基板上的投影被所述遮光層在所述襯底基板上的投影覆蓋。

8.一種3D顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1～7中任一項所述的陣列基板。

9.一種陣列基板制作方法，包括在襯底基板一側的表面形成像素陣列層，其特征在于，還包括：在所述襯底基板另一側形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形。

10.如權利要求9所述的陣列基板制作方法，其特征在于，所述在所述襯底基板另一側形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形的步驟具體包括：

在所述襯底基板另一側的表面直接形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形。

11.如權利要求10所述的陣列基板制作方法，其特征在于，還包括在所述光柵層的圖形表面形成偏光片。

12.如權利要求9所述的陣列基板制作方法，其特征在于，所述在所述襯底基板另一側形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形的步驟具體包括：

在所述襯底基板另一側的表面形成偏光片；

在所述偏光片的表面形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形。

13.一種陣列基板制作方法，其特征在于，包括：

在襯底基板的一側形成像素陣列層中的像素電極層的圖形；

在所述像素電極層背離所述襯底基板的一側形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形；

在所述光柵層背離所述襯底基板的一側形成取向層。

14.一種陣列基板制作方法，其特征在于，包括：

在所述襯底基板一側形成由若干間隔有預定距離的擋光條排列成的用于3D顯示的光柵層的圖形；

在所述光柵層背離所述襯底基板的一側形成像素陣列層。