[發明專利]一種多晶硅的制備方法有效
| 申請號: | 201310391320.X | 申請日: | 2013-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN103469293A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發明(設計)人: | 段金剛;譚曉松;陳國紅;黃俊;李檜林;楊曉生 | 申請(專利權)人: | 湖南紅太陽光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B11/00 | 分類號: | C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113 | 代理人: | 馬強 |
| 地址: | 410205 湖南省*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 多晶 制備 方法 | ||
1.一種多晶硅的制備方法,其特征是,具體步驟為:
(1)?石英坩堝預處理:使用易于揮發的無毒溶劑來分散純度大于99.9%的75μm-350μm的硅粉,其中每500mL溶劑中分散350g-450g硅粉,攪拌成漿料,將漿料均勻地刷在坩堝底部,晾干備用;
(2)?在預處理過的石英坩堝底部鋪設粒徑為3mm-10mm的晶硅碎片料,形成10mm-30mm厚度的碎多晶層;鋪底完成后,將硅料和母合金裝入石英坩堝中,然后將石英坩堝裝入鑄錠爐內,閉合上下爐體,抽真空,再關閉隔熱籠,加熱使硅料進入熔化階段;所述母合金的加入比例根據目標電阻值計算得到;
(3)?當熔化進入結束步階段時,控制加熱溫度1540℃-1570℃,隔熱籠提升至開度(a)為5?mm?-20mm,并控制DS塊溫度TC2不超過1425℃,使得底部碎多晶剛好熔完,進入步驟(4)-(7)的降溫階段;
(4)控制加熱器溫度為1500℃-1535℃,在10min-20min內將隔熱籠提升至開度(a)為10?mm?-30mm;
(5)控制加熱器溫度為1450℃-1480℃,在10min-20min內將隔熱籠提升至開度(a)為10?mm?-50mm;
(6)控制加熱器溫度為1430℃-1460℃,在20min-50min內將隔熱籠提升至開度(a)為10?mm?-70mm;;
(7)控制加熱器溫度為1425℃-1440℃,在20min-50min內將隔熱籠提升至開度(a)為50?mm?-80mm;
其中,步驟(6)隔熱籠打開的程度大于第(5)步中隔熱籠打開程度;步驟(7)隔熱籠打開的程度大于等于步驟(6)中隔熱籠打開程度,熔化階段結束;
(8)?進入長晶初期,長晶初期控制加熱溫度為1425℃-1440℃,隔熱籠提升速度為4?mm/h?-8mm/h,使得坩堝底部的碎多晶形成一層均勻的樹枝狀籽晶;
(9)?進入長晶中后期,控制長晶中后期隔熱籠的提升速度為0?mm/h?-4mm/h,加熱器的降溫速率為1℃/h?-2℃/h,以坩堝底部均勻的樹枝狀籽晶為基礎,保持微凸的固液界面,豎直向上定向凝固生成含有大量孿晶的多晶硅。
2.根據權利要求1所述所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,所述步驟(1)所述易于揮發的無毒溶劑為無水乙醇。
3.根據權利要求1所述所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,所述步驟(1)所使用的晶硅碎片料是多晶硅、單晶硅以及準單晶硅的碎片料或碎塊料中的一種或幾種。
4.根據權利要求1-3之一所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,步驟(2)中當熔化進入結束步時,加熱溫度控制在1555℃-1565℃。
5.根據權利要求1-3之一所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,步驟(4)加熱器溫度控制在1500℃-1510℃,在10min-20min內隔熱籠提升至開度(a)為10?mm?-30mm。
6.根據權利要求1-3之一所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,步驟(5)加熱器溫度控制在1480℃-1490℃,在10min-20min內隔熱籠提升至開度(a)為30?mm?-50mm。
7.根據權利要求1-3之一所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,步驟(6)加熱器溫度控制在1430℃-1440℃,在40min-50min內隔熱籠提升至開度(a)為50?mm?-70mm。
8.根據權利要求1-3之一所述一種多晶硅的制備方法,其特征是,步驟(7)加熱器溫度控制在1425℃-1435℃,在40min-50min內隔熱籠提升至開度(a)為70?mm?-80mm。
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