[發(fā)明專利]在襯底上印刷圖案的方法和設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310390629.7 | 申請日： | 2013-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN103660551B | 公開（公告）日： | 2017-04-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | M·佳利亞佐;A·沃爾坦;A·卡薩林 | 申請（專利權(quán)）人： | 應(yīng)用材料意大利有限公司 |
| 主分類號： | B41F33/16 | 分類號： | B41F33/16 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100 | 代理人： | 陸嘉 |
| 地址： | 意大利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 襯底 印刷 圖案 方法 設(shè)備 | ||
1.一種在襯底上印刷圖案的方法，所述方法包含：
采集具有印刷在襯底上的多個印刷軌跡的所述襯底的表面區(qū)域的圖像，其中所述印刷軌跡是被配置以將電流供應(yīng)到太陽能電池襯底中的集電條的指狀件；
借助于所述圖像識別在所述多個印刷軌跡上的印刷軌跡部分相對于所述襯底的至少一個側(cè)面的位置，其中所述印刷軌跡部分是在所述圖像中的所述印刷軌跡的可識別區(qū)段；
通過比較所述印刷軌跡部分的所述位置與預(yù)定印刷軌跡的位置來決定調(diào)整參數(shù)；以及
基于所述調(diào)整參數(shù)執(zhí)行后續(xù)印刷操作。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中識別所述印刷軌跡部分的所述位置包含：決定所述印刷軌跡部分相對于所述襯底的所述至少一個側(cè)面的第一距離和定向角。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中識別在所述多個印刷軌跡上的印刷軌跡部分的位置包含：識別在相同印刷軌跡上的至少兩個印刷軌跡部分的位置；和/或識別在兩個不同印刷軌跡上的至少兩個印刷軌跡部分的位置。
4.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述比較被配置以決定在所述印刷軌跡部分和所述預(yù)定印刷軌跡之間的第一偏差。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中比較所述位置被配置以基于所述第一偏差決定印刷參數(shù)。
6.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中比較所述位置被配置以基于印刷軌跡部分的所述位置評估所述印刷軌跡的位置。
7.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中比較所述印刷軌跡部分的所述位置與預(yù)定印刷軌跡的位置包括：將所述印刷軌跡部分與預(yù)定印刷軌跡的位置進(jìn)行比較，所述預(yù)定印刷軌跡的位置是關(guān)于垂直于所述印刷軌跡部分的縱軸的方向。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中比較所述印刷軌跡部分的所述位置與預(yù)定印刷軌跡的位置包括從以下列表中選擇的至少一個要素：
在垂直于所述印刷軌跡部分的所述縱軸的方向上，比較在所述印刷軌跡部分和所述預(yù)定印刷軌跡之間的距離；以及比較在所述印刷軌跡部分和所述預(yù)定印刷軌跡之間的角度交錯。
9.如權(quán)利要求3所述的方法，其中比較所述印刷軌跡部分的所述位置與預(yù)定印刷軌跡的位置包括將所述印刷軌跡部分與預(yù)定印刷軌跡的位置進(jìn)行比較，所述預(yù)定印刷軌跡的位置是關(guān)于垂直于所述印刷軌跡部分的縱軸的方向。
10.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述預(yù)定印刷軌跡是先前沉積的印刷軌跡或者在先前處理的襯底上沉積的印刷軌跡。
11.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中光學(xué)地采集所述圖像。
12.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中采集所述表面區(qū)域的所述圖像包括：
采集多個所述表面區(qū)域的各個圖像，其中所述采集各個圖像被配置以決定存在于每個表面區(qū)域上的至少一個印刷軌跡部分的位置和定向。
13.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中執(zhí)行后續(xù)印刷操作包含：在已存在于所述襯底上的所述多個印刷軌跡的頂部上沉積印刷軌跡的進(jìn)一步層。
14.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述襯底是單鑄硅襯底。
15.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其中識別在所述多個印刷軌跡上的印刷軌跡部分相對于所述襯底的至少一個側(cè)面的所述位置包括：識別在所述印刷軌跡部分和所述襯底的所述至少一個側(cè)面之間的距離，其中所述襯底的所述至少一個側(cè)面垂直于所述印刷軌跡部分的縱軸。
16.如權(quán)利要求7所述的方法，其中識別在所述多個印刷軌跡上的印刷軌跡部分相對于所述襯底的至少一個側(cè)面的所述位置包括：識別在所述印刷軌跡部分和所述襯底的所述至少一個側(cè)面之間的距離，其中所述襯底的所述至少一個側(cè)面垂直于所述印刷軌跡部分的所述縱軸。
17.如權(quán)利要求8所述的方法，其中識別在所述多個印刷軌跡上的印刷軌跡部分相對于所述襯底的至少一個側(cè)面的所述位置包括：識別在所述印刷軌跡部分和所述襯底的所述至少一個側(cè)面之間的距離，其中所述襯底的所述至少一個側(cè)面垂直于所述印刷軌跡部分的所述縱軸。
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