[發明專利]觸摸屏、其制作方法及顯示裝置

有效

• 申請號: 201310390544.9
• 申請日: 2013-08-30
• 公開（公告）號: CN103455204A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 郝光葉;林允植
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種觸摸屏的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上通過一次構圖工藝形成橋接層和遮蔽層的圖形；

在所述遮蔽層和橋接層上形成絕緣層的圖形；

在所述絕緣層上形成觸控電極層的圖形；所述觸控電極層包括交叉而置且相互絕緣的觸控感應電極和觸控驅動電極；所述橋接層橋接相鄰的所述觸控驅動電極或相鄰的所述觸控感應電極。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

在所述觸控電極層上形成周邊走線的圖形。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，還包括：

在所述周邊走線上形成鈍化層的圖形。

4.如權利要求1-3任一項所述的方法，其特征在于，所述在基板上通過一次構圖工藝形成橋接層和遮蔽層的圖形，包括：

在所述基板上形成橋接層的薄膜；

在所述橋接層的薄膜上形成光刻膠，使用第一掩膜板對光刻膠曝光顯影，得到第一光刻膠完全去除區域、第一光刻膠部分保留區域以及第一光刻膠完全保留區域；所述第一光刻膠部分保留區域對應于形成橋接層的圖形區域，所述第一光刻膠完全保留區域對應于形成所述遮蔽層的圖形區域；

對第一光刻膠完全去除區域、第一光刻膠部分保留區域以及第一光刻膠完全保留區域分別進行刻蝕，形成橋接層和遮蔽層的圖形。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一掩模板為半色調掩模板或灰色調掩模板。

6.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述光刻膠為黑色感光性樹脂。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述對第一光刻膠完全去除區域、第一光刻膠部分保留區域以及第一光刻膠完全保留區域分別進行刻蝕，形成橋接層和遮蔽層的圖形，具體包括：

采用蝕刻工藝去除所述第一光刻膠完全去除區域的橋接層的薄膜，得到橋接層的圖形；

采用灰化工藝去除所述第一光刻膠部分保留區域的光刻膠，暴露出所述橋接層的圖形，同時減薄所述第一光刻膠完全保留區域的光刻膠厚度，得到遮蔽層的圖形。

8.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述絕緣層上形成觸控電極層的圖形，在所述觸控電極上形成周邊走線的圖形，具體包括：

在絕緣層上通過一次構圖工藝形成觸控電極層和周邊走線的圖形。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述在絕緣層上通過一次構圖工藝形成觸控電極層和周邊走線的圖形，具體包括：

在所述絕緣層上依次形成觸控電極層的薄膜以及周邊走線的薄膜；

在所述周邊走線的薄膜上形成光刻膠，使用第二掩膜板對光刻膠曝光顯影，得到第二光刻膠完全去除區域、第二光刻膠部分保留區域以及第二光刻膠完全保留區域；所述第二光刻膠部分保留區域對應于形成觸控電極的圖形區域，所述第二光刻膠完全保留區域對應于形成周邊走線的圖形區域；

對第二光刻膠完全去除區域、第二光刻膠部分保留區域以及第二光刻膠完全保留區域分別進行刻蝕，形成觸控電極層和周邊走線的圖形。

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，所述第二掩模板為半色調掩模板或灰色調掩模板。

11.如權利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述對第二光刻膠完全去除區域、第二光刻膠部分保留區域以及第二光刻膠完全保留區域分別進行刻蝕，形成觸控電極層和周邊走線的圖形，具體包括：

去掉所述第二光刻膠完全去除區域的觸控電極層的薄膜與周邊走線的薄膜，得到觸控電極層的圖形；

去除掉所述第二光刻膠部分保留區域的光刻膠，同時減薄第二光刻膠完全保留區域的光刻膠；

去掉所述第二光刻膠部分保留區域的周邊走線的薄膜，暴露出所述觸控電極層的圖形，剝離所述第二光刻膠完全保留區域的光刻膠，得到周邊走線的圖形。

12.一種觸摸屏，其特征在于，包括一基板，在所述基板上依次層疊設置的橋接層、遮蔽層、絕緣層及觸控電極層；其中，

所述橋接層、所述絕緣層和所述觸控電極層位于所述觸摸屏的觸控區域；所述觸控電極層包括同層設置、交叉而置且相互絕緣的觸控感應電極和觸控驅動電極；所述橋接層橋接相鄰的所述觸控驅動電極或相鄰的所述觸控感應電極；

所述橋接層、所述遮蔽層、所述絕緣層和所述觸控電極層位于所述觸摸屏的非觸控區域。