[發明專利]觸摸屏、其制作方法及顯示裝置

在審

• 申請號: 201310390465.8
• 申請日: 2013-08-30
• 公開（公告）號: CN103455203A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 郝光葉;林允植
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種觸摸屏的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成觸控電極層的圖形；所述觸控電極層包括交叉而置且相互絕緣的觸控感應電極和觸控驅動電極；

在所述觸控電極層上形成絕緣層的圖形；

在所述絕緣層上通過一次構圖工藝形成橋接層和周邊走線的圖形；所述橋接層橋接相鄰的所述觸控驅動電極或相鄰的所述觸控感應電極。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述觸控電極層上形成絕緣層的圖形的步驟之前，還包括：

在所述基板上形成遮蔽層的圖形。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述絕緣層上通過一次構圖工藝形成橋接層和周邊走線的圖形的步驟，包括：

在所述絕緣層上依次形成橋接層的薄膜以及周邊走線的薄膜；

在所述周邊走線的薄膜上形成光刻膠，使用一掩膜板對光刻膠曝光顯影，得到光刻膠完全去除區域、光刻膠部分保留區域以及光刻膠完全保留區域；所述光刻膠部分保留區域對應于形成橋接層的圖形區域，所述光刻膠完全保留區域對應于形成所述周邊走線的圖形區域；

對光刻膠完全去除區域、光刻膠部分保留區域以及光刻膠完全保留區域分別進行刻蝕，形成橋接層和周邊走線的圖形。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述掩模板為半色調掩模板或灰色調掩模板。

5.如權利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述對光刻膠完全去除區域、光刻膠部分保留區域以及光刻膠完全保留區域分別進行刻蝕，形成橋接層和周邊走線的圖形，具體包括：

采用蝕刻工藝去掉所述光刻膠完全去除區域的橋接層的薄膜與周邊走線的薄膜，得到橋接層的圖形；

采用灰化工藝去除掉所述光刻膠部分保留區域的光刻膠，減薄光刻膠完全保留區域的光刻膠；

采用蝕刻工藝去掉所述光刻膠部分保留區域的周邊走線的薄膜，暴露出所述橋接層的圖形，剝離所述光刻膠完全保留區域的光刻膠，得到周邊走線的圖形。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述絕緣層上通過一次構圖工藝形成橋接層和周邊走線的圖形之后，還包括：

在所述周邊走線上形成鈍化層的圖形。

7.一種觸摸屏，其特征在于，包括一基板，在所述基板上依次層疊設置的觸控電極層、絕緣層、橋接層及周邊走線；其中，

所述觸控電極層、所述絕緣層和所述橋接層位于所述觸摸屏的觸控區域；所述觸控電極層包括同層設置、交叉而置且相互絕緣的觸控感應電極和觸控驅動電極；所述橋接層橋接相鄰的所述觸控驅動電極或相鄰的所述觸控感應電極；

所述觸控電極層、所述絕緣層、所述橋接層及所述周邊走線位于所述觸摸屏的非觸控區域。

8.如權利要求7所述的觸摸屏，其特征在于，還包括：位于所述觸摸屏的非觸控區域的遮蔽層；

所述遮蔽層位于所述基板與所述觸控電極層之間，或位于所述觸控電極層與所述絕緣層之間。

9.如權利要求7所述的觸摸屏，其特征在于，還包括：位于所述周邊走線之上，且覆蓋所述觸控區域和所述非觸控區域的鈍化層。

10.如權利要求8所述的觸摸屏，其特征在于，所述遮蔽層的材料為黑色感光性樹脂。

11.如權利要求7所述的觸摸屏，其特征在于，所述橋接層和或所述觸控電極層的材料為透明導電材料。

12.如權利要求11所述的觸摸屏，其特征在于，所述透明導電材料為氧化銦錫ITO、氧化銦鋅IZO材料、碳納米管或者石墨烯。

13.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求7-12任一項所述的觸摸屏。