[發(fā)明專利]一種機(jī)械設(shè)備無腐蝕的拋光液

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310387782.4
• 申請日: 2013-08-31
• 公開（公告）號: CN103468150A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張竹香
• 申請（專利權(quán)）人: 青島承天偉業(yè)機(jī)械制造有限公司
• 主分類號: C09G1/08
• 分類號: C09G1/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種機(jī)械設(shè)備無腐蝕的拋光液。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)介電層材料由于具有較高的介電常數(shù)，會導(dǎo)致傳導(dǎo)層之間電容增大，從而影響集成電路的速度，使效率降低，隨著集成電路的復(fù)雜化和精細(xì)化，這種基底材料越發(fā)不能滿足更先進(jìn)制程的技術(shù)要求，在襯底中引入低介電材料是集成電路技術(shù)發(fā)展的必然趨勢，隨之產(chǎn)生了許多用于低介電材料的拋光漿液。但目前現(xiàn)有技術(shù)中的低介電材料拋光液都沒有達(dá)到制造成本和技術(shù)表現(xiàn)的完美結(jié)合。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種機(jī)械設(shè)備無腐蝕的拋光液。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：

一種機(jī)械設(shè)備無腐蝕的拋光液，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì)：水楊酸鈉21-30份，醋酸鈉9-12份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，磷酸二氫鉀3-6份，抗靜電劑1-2份，甲基硅油4-9份，液體石酯8-13份，硬脂酸3-8份，除雜劑7-10份，處理劑11-18份，二氧化鈦3-5份，磷酸二氫鉀2-4份，分子篩1-2份，硅藻土1份，硼酸鈉2-4份，片層結(jié)構(gòu)的云母粉1份，空心玻璃微珠1-2份。

本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械拋光液可抑制低介電材料的拋光速率，而對銅和二氧化硅的去除速率影響不大，同時可減少被拋光材料的表面污染物。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

一種機(jī)械設(shè)備無腐蝕的拋光液，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì)：水楊酸鈉21-30份，醋酸鈉9-12份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，磷酸二氫鉀3-6份，抗靜電劑1-2份，甲基硅油4-9份，液體石酯8-13份，硬脂酸3-8份，除雜劑7-10份，處理劑11-18份，二氧化鈦3-5份，磷酸二氫鉀2-4份，分子篩1-2份，硅藻土1份，硼酸鈉2-4份，片層結(jié)構(gòu)的云母粉1份，空心玻璃微珠1-2份。