[發明專利]一種機械設備無腐蝕的拋光液

無效

• 申請號: 201310387782.4
• 申請日: 2013-08-31
• 公開（公告）號: CN103468150A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 張竹香
• 申請（專利權）人: 青島承天偉業機械制造有限公司
• 主分類號: C09G1/08
• 分類號: C09G1/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種機械設備無腐蝕的拋光液。

背景技術

傳統介電層材料由于具有較高的介電常數，會導致傳導層之間電容增大，從而影響集成電路的速度，使效率降低，隨著集成電路的復雜化和精細化，這種基底材料越發不能滿足更先進制程的技術要求，在襯底中引入低介電材料是集成電路技術發展的必然趨勢，隨之產生了許多用于低介電材料的拋光漿液。但目前現有技術中的低介電材料拋光液都沒有達到制造成本和技術表現的完美結合。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種機械設備無腐蝕的拋光液。

為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是：

一種機械設備無腐蝕的拋光液，其特征在于，包括下列重量份數的物質：水楊酸鈉21-30份，醋酸鈉9-12份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，磷酸二氫鉀3-6份，抗靜電劑1-2份，甲基硅油4-9份，液體石酯8-13份，硬脂酸3-8份，除雜劑7-10份，處理劑11-18份，二氧化鈦3-5份，磷酸二氫鉀2-4份，分子篩1-2份，硅藻土1份，硼酸鈉2-4份，片層結構的云母粉1份，空心玻璃微珠1-2份。

本發明的化學機械拋光液可抑制低介電材料的拋光速率，而對銅和二氧化硅的去除速率影響不大，同時可減少被拋光材料的表面污染物。

具體實施方式

實施例1

一種機械設備無腐蝕的拋光液，其特征在于，包括下列重量份數的物質：水楊酸鈉21-30份，醋酸鈉9-12份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，磷酸二氫鉀3-6份，抗靜電劑1-2份，甲基硅油4-9份，液體石酯8-13份，硬脂酸3-8份，除雜劑7-10份，處理劑11-18份，二氧化鈦3-5份，磷酸二氫鉀2-4份，分子篩1-2份，硅藻土1份，硼酸鈉2-4份，片層結構的云母粉1份，空心玻璃微珠1-2份。