[發明專利]產品輪廓變形量分析系統及方法

在審

• 申請號: 201310387265.7
• 申請日: 2013-08-30
• 公開（公告）號: CN104422422A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 張旨光;吳新元
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G01B21/20
• 分類號: G01B21/20;G01B21/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種產品輪廓變形量分析系統，運行于計算設備中，其特征在于，該系統包括：

匯入模塊，用于匯入產品的標準圖形的標準輪廓線以及通過掃描獲得的產品的點云輪廓線；

對齊模塊，用于將所述點云輪廓線與所述標準輪廓線對齊；

計算模塊，用于計算對齊后的點云輪廓線中的每一點相對于標準輪廓線的偏差值；

查找模塊，用于找出所有偏差值中的最大偏差值對應的點，并找出該最大偏差值對應的點附近預設范圍內的點，形成一偏差隊列；

第一圖形生成模塊，用于將所述偏差隊列內所有點的偏差值生成一折線圖；以及

顯示模塊，用于顯示所述折線圖。

2.如權利要求1所述的產品輪廓變形量分析系統，其特征在于：所述對齊模塊包括：

整體對齊單元，用于采用最小二乘法將點云輪廓線與標準輪廓線進行整體對齊；以及

局部對齊單元，用于將完成整體對齊后的點云輪廓線再通過最小二乘法與對應的標準輪廓線進行局部對齊。

3.如權利要求2所述的產品輪廓變形量分析系統，其特征在于：所述局部對齊單元通過構建一矩形框，該矩形框沿著該點云輪廓線的走向連續對該點云輪廓線進行局部截取，然后將每一次局部截取時位于該矩形框內的所有點利用最小二乘法進行對齊判斷，實現局部對齊。

4.如權利要求1所述的產品輪廓變形量分析系統，其特征在于：所述查找模塊通過查找最大偏差值對應的點兩側偏差值最小的點，將所查找到的兩個偏差值最小的點及二者之間的所有點構成所述偏差隊列。

5.如權利要求1所述的產品輪廓變形量分析系統，其特征在于，所述產品輪廓變形量分析系統還包括：

第二圖形生成模塊，用于根據點云輪廓線、標準輪廓線及點云輪廓線中各點的偏差值生成一數值區間標示圖，以指明點云輪廓線中每一點對應的偏差值所屬的數值區間；

其中，顯示模塊在顯示所述折線圖時，將所述數值區間標示圖與所述折線圖一起進行顯示。

6.一種產品輪廓變形量分析方法，運行于計算設備中，其特征在于，該方法包括：

(a)匯入產品的標準圖形的標準輪廓線以及通過掃描獲得的產品的點云輪廓線；

(b)將所述點云輪廓線與所述標準輪廓線對齊；

(c)計算對齊后的點云輪廓線中的每一點相對于標準輪廓線的偏差值；

(d)找出所有偏差值中的最大偏差值對應的點，并找出該最大偏差值對應的點附近預設范圍內的點，形成一偏差隊列；

(e)將所述偏差隊列內所有點的偏差值生成一折線圖；以及

(f)顯示所述折線圖。

7.如權利要求6所述的產品輪廓變形量分析方法，其特征在于：步驟(b)具體包括：

(g)采用最小二乘法將點云輪廓線與標準輪廓線進行整體對齊；以及

(h)將完成整體對齊后的點云輪廓線再通過最小二乘法與對應的標準輪廓線進行局部對齊。

8.如權利要求7所述的產品輪廓變形量分析方法，其特征在于：步驟(h)具體為：

構建一矩形框；

該矩形框沿著該點云輪廓線的走向連續對該點云輪廓線進行局部截取；

將每一次局部截取時位于該矩形框內的所有點利用最小二乘法進行對齊判斷，實現局部對齊。

9.如權利要求6所述的產品輪廓變形量分析方法，其特征在于：步驟(d)中，形成偏差隊列的方法具體為：

查找最大偏差值對應的點兩側偏差值最小的點，將所查找到的兩個偏差值最小的點及二者之間的所有點構成所述偏差隊列。

10.如權利要求6所述的產品輪廓變形量分析方法，其特征在于，該方法還包括：

根據點云輪廓線、標準輪廓線及點云輪廓線中各點的偏差值生成一數值區間標示圖，以指明點云輪廓線中每一點對應的偏差值所屬的數值區間；

其中，步驟(h)具體為：將所述數值區間標示圖與所述折線圖一起進行顯示。