[發明專利]一種光學擴散膜及其制備方法有效
| 申請號: | 201310387127.9 | 申請日: | 2013-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN103412356A | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發明(設計)人: | 鐘國倫;李哲;劉紅兵;方振華;孟凡偉 | 申請(專利權)人: | 浙江元泰特種膜有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/02 | 分類號: | G02B5/02;G02B1/04 |
| 代理公司: | 寧波市天晟知識產權代理有限公司 33219 | 代理人: | 張文忠 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波市余*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 擴散 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及電子產品制造領域,尤其是一種光學擴散膜及其制備方法。
背景技術
平板顯示(FPD,例如LCD、PDP等)產業作為信息產業的重要組成部分,近年來更是得到了迅速發展。平板顯示器廣泛應用于電視、電腦顯示器、筆記本電腦、手機、數碼相機、MP3、MP4、MP5、車載DSC/DV、GPS導航儀等產品上。但這些平板顯示器本身并不發光,所產生的畫面光源是由其中的背光模組所提供,其光源要求均勻、高亮度。
不論是現在應用較多的LED背光源還是傳統的CCFL背光源,其所發出的光為點光源或者線光源,而不是面光源。但經過背光模組用擴散膜,能夠將其分布成一個均勻的面光源。光線經過擴散層時,通過在兩種折射率不同的介質中不斷發生的折射、反射等光學現象,從而得到光學擴散的結果。
現有的光學擴散膜包含基材、正面擴散層和背面防粘接層,擴散層中包含擴散劑及樹脂粘合劑,防粘接層包含防粘接粒子和樹脂粘合劑。
通常,擴散膜涂布液的調制是在樹脂粘合劑中加入擴散劑微珠。再涂覆在透明基材一面形成擴散膜。樹脂粘合劑優選丙烯酸樹脂、聚氨酯粘合劑和聚酯粘合劑等。擴散劑微珠可以是有機微珠(丙烯酸樹脂微珠、甲基丙烯酸樹脂微珠、苯乙烯微珠、聚硅氧烷樹脂微珠等)、無機離子(碳酸鈣、氧化鋁、氧化硅、氧化鈦、氧化鋅等)或者它們的混合物。
但是,現有的光學擴散膜,存在光學透過率或霧度過低問題,因此其結構有待進一步改進。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是針對上述現有技術現狀,而提供結構簡單、制備簡便,霧度高、透過率高的一種光學擴散膜及其制備方法,本光學擴散膜利用膜中加入的助擴散粒子,使光線進入擴散膜后產生“丁達爾效應”。
本發明解決上述技術問題所采用的技術方案為:
一種光學擴散膜,包括有基材層,基材層的上表面涂覆形成光學擴散層,該基材層的下表面涂有防粘接層,其中,光學擴散層的涂液的組成配方的重量份數為:樹脂粘合劑10份至30份,擴散劑21份至43份,交聯劑1份至5份,稀釋劑40份至70份,擴散劑包含擴散粒子20份至40份,助擴散粒子1份至3份;防粘接層的涂液的組成配方的重量份數為:防粘接粒子20份至40份、樹脂粘合劑20份至50份、交聯劑1份至3份、稀釋劑40份至60份。
為優化上述技術方案,采取的措施還包括:
上述的基材層為PET材料、PS材料或PC材料制成。
上述的樹脂粘合劑為丙烯酸樹脂粘合劑、聚氨酯粘合劑或聚酯粘合劑。
上述的擴散劑為有機微珠、無機離子或者兩者的混合物。
上述的擴散粒子為第一PMMA粒子和第二PMMA粒子的混合物,第一PMMA粒子和第二PMMA粒子的粒徑比為5:1至20:1,其重量比3:1至8:1。
上述的第一PMMA粒子的粒徑為15微米至40微米,第二PMMA粒子的粒徑為1微米至5微米。
上述的助擴散粒子為納米級的氧化鈦或碳酸鈣,助擴散粒子的粒徑為10納米至90納米。
上述的交聯劑為脂肪類異氰酸酯類交聯劑,防粘接粒子為第二PMMA粒子。
上述的光學擴散層的厚度為第一PMMA粒子的粒徑的1/2至4/5,防粘接層的厚度為第二PMMA粒子的粒徑的2/5至3/5。
一種光學擴散膜的制備方法,包括以下步驟:
步驟1、按照光學擴散層的組成配方準備涂液原料;
步驟2、將配方中的稀釋劑、擴散劑加入到分散機中,在1000r/min的轉速下分散30min至40min,然后加入樹脂粘合劑,在700r/min的轉速下分散15min至20min,接著加入交聯劑,在700r/min的轉速下分散10min至15min;
步驟3、將分散均勻的光學擴散層的涂液原料涂于基材層的上表面,然后進行烘干處理,在80℃至110℃的烘干溫度下烘干40秒,最后進行老化處理,在55℃的老化溫度下老化60小時形成光學擴散層;
步驟4、按照防粘接層的組成配方準備涂液原料;
步驟5、將配方中的稀釋劑、防粘接粒子加入到分散機中,然后加入樹脂粘合劑,在700r/min的轉速下分散15min至20min,接著加入交聯劑,在700r/min的轉速下分散10min至15min;
步驟6、將分散均勻的防粘接層的涂液原料涂于基材層的下表面,然后進行烘干處理,在80℃至110℃的烘干溫度下烘干40秒,最后進行老化處理,在55℃的老化溫度下老化60小時形成防粘接層;完成光學擴散膜的制備。
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