[發(fā)明專利]一種LED管芯片電極的制作方法、LED管芯片及LED管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310386066.4 | 申請日: | 2013-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN103441193A | 公開(公告)日: | 2013-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉晶;葉國光 | 申請(專利權(quán))人: | 劉晶 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/14;H01L33/40 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標事務(wù)所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 湯喜友 |
| 地址: | 529000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 led 芯片 電極 制作方法 | ||
1.一種LED管芯片電極的制造方法,包括在襯底上依次生長出N型半導(dǎo)體層,發(fā)光層和P型半導(dǎo)體層,其特征在于:
1)在所述P型半導(dǎo)體層上需要制作P型電極的區(qū)域鍍上與P型半導(dǎo)體層非奧姆接觸的第一電極接觸層;
2)在所述第一電極接觸層上鍍上電流阻擋層;
3)在所述P型半導(dǎo)體層上,未被上述第一電極接觸層和電流阻擋層覆蓋的區(qū)域鍍上電流擴散層;
4)在所述電流阻擋層上鍍上與電流擴散層歐姆接觸的第二電極接觸層;
5)在所述第二電極接觸層上鍍上第三電極接觸層;
6)在所述第三電極接觸層上采用化學(xué)方法鍍上材料為金的電極焊線層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種LED管芯片電極的制造方法,其特征在于:所述第一電極接觸層的材料為:Ti或Cr或Al或Ag或Pt,所述電流阻擋層的材料為:TiO2或Al2O3或SiO2或Si3N4或ZnO。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種LED管芯片電極的制造方法,其特征在于:所述第二電極接觸層的材料為:Ti或Ni,所述第三電極接觸層的材料為Au或Pt或Cr或Wu或Pd。
4.一種LED管芯片,包括襯底,和依次覆蓋在襯底上的N型半導(dǎo)體層、發(fā)光層、P型半導(dǎo)體層和設(shè)置于P型半導(dǎo)體層上的P型電極,其特征在于:所述P型電極包括有第一電極接觸層,所述第一接觸層上設(shè)置有電流阻擋層,所述P型半導(dǎo)體層上除電流阻擋層覆蓋的區(qū)域以外設(shè)置有電流擴散層,所述電流阻擋層上設(shè)置有第二電極接觸層,所述第二電極接觸層上設(shè)置有第三電極接觸層,所述第二電極接觸層和第三電極接觸層與電流擴散層歐姆接觸,所述第三電極接觸層上設(shè)置有材料為金的電極焊線層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種LED管芯片,其特征在于:所述第一電極接觸層的材料為:Ti或Cr或Al或Ag或Pt,所述電流阻擋層的材料為:TiO2或Al2O3或SiO2或Si3N4或ZnO。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種LED管芯片,其特征在于:所述第二電極接觸層的材料為:Ti或Ni,所述第三電極接觸層的材料為Au或Pt或Cr或Wu或Pd。
7.一種LED管,包括支架、安裝于支架上芯片、電連接芯片與支架的焊線和焊點、覆蓋所述支架和芯片的封裝膠體,將芯片固定在支架14上的導(dǎo)電膠141,所述芯片包括襯底,和依次覆蓋在襯底上的N型半導(dǎo)體層、發(fā)光層、P型半導(dǎo)體層和設(shè)置于P型半導(dǎo)體層上的P型電極,其特征在于:所述P型電極包括有第一電極接觸層,所述第一接觸層上設(shè)置有電流阻擋層,所述P型半導(dǎo)體層上除電流阻擋層覆蓋的區(qū)域以外設(shè)置有電流擴散層,所述電流阻擋層上設(shè)置有第二電極接觸層,所述第二電極接觸層上設(shè)置有第三電極接觸層,所述第二電極接觸層和第三電極接觸層與電流擴散層歐姆接觸,所述第三電極接觸層上設(shè)置有材料為金的電極焊線層,所述焊線和焊點材料為:Au、Al、Ag、Pd、Cu或前述兩種以上的合金材料的組合合金。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種LED管,其特征在于:所述第一電極接觸層的材料為:Ti或Cr或Al或Ag或Pt,所述電流阻擋層的材料為:TiO2或Al2O3或SiO2或Si3N4或ZnO。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種LED管,其特征在于:所述第二電極接觸層的材料為:Ti或Ni,所述第三電極接觸層的材料為Au或Pt或Cr或Wu或Pd。
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