[發(fā)明專利]一種OLED像素及其顯示裝置的制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310385786.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-08-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103943652B | 公開(公告)日: | 2017-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李玉軍;陸震生;趙本剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201201 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 oled 像素 及其 顯示裝置 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域。尤其涉及一種OLED(organic?light?emitting?diode)像素及其顯示裝置的制作方法。
背景技術(shù)
當(dāng)前,OLED顯示器作為主動(dòng)發(fā)光器件越來越受到人們的重視,其生產(chǎn)制造技術(shù)也日趨成熟化。通常,對(duì)以O(shè)LED像素的制造而言,主要分為下面三個(gè)步驟:在OLED基板上形成TFT(thin?film?transistor,薄膜晶體管)電路和OLED陽極;形成OLED發(fā)光層;以及成膜,形成OLED陰極。其中,OLED發(fā)光層通常都采用蒸鍍方式,但是蒸鍍方式存在以下問題:
1.由于OLED發(fā)光材料的升華溫度很高,在蒸鍍時(shí)容易導(dǎo)致掩模板(mask)變形,產(chǎn)生器件結(jié)構(gòu)的精細(xì)化不達(dá)標(biāo)問題;
2.不能大面積化生產(chǎn),否則會(huì)致使mask中心下垂;
3.蒸鍍的不均勻,容易導(dǎo)致膜厚不均勻的問題;
4.如果采用打印方式形成OLED發(fā)光層,則噴材顆粒中間厚、邊緣薄的特點(diǎn)會(huì)造成顯示不均、發(fā)光效率不高等問題;
5.如果采用絲印的方式形成OLED發(fā)光層,同樣存在顯示不均勻,發(fā)光層中間厚,邊緣薄的問題。
此外,以上工藝目前還存在以下無法克服的問題:
1.無法R(red)G(green)B(blue)全彩成膜,因?yàn)镺LED發(fā)光層為嚴(yán)禁曝光、不能接觸H2O、O2,所以無法刻蝕,因而無法實(shí)現(xiàn)全彩成膜;
2.為產(chǎn)生全彩顯示的效果,需要增加混色的彩膜(color?filter),但這樣顯示器的整體尺寸很厚,工藝復(fù)雜,光利用率低下;
3.浪費(fèi)貴重的OLED發(fā)光材料。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種OLED像素及其顯示裝置的制作方法。
具體地,本發(fā)明提供的一種OLED像素的制作方法,所述OLED像素至少包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述OLED像素制作方法包括:在基板上形成陽極、像素定義層,所述像素定義層包括與所述第一子像素對(duì)應(yīng)的第一子像素區(qū)域、與所述第二子像素對(duì)應(yīng)的第二子像素區(qū)域、與所述第三子像素對(duì)應(yīng)的第三子像素區(qū)域以及像素間隔區(qū)域,所述第一子像素、第二子像素和第三子像素之間通過所述像素間隔區(qū)域彼此間隔開;在所述像素間隔區(qū)域、第二子像素區(qū)域、第三子像素區(qū)域上涂布第一長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層;在所述第一子像素區(qū)域和所述第一長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層上涂布第一發(fā)光層;對(duì)所述基板進(jìn)行灰化處理,去除所述第一長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層,形成第一發(fā)光圖案;在所述像素間隔區(qū)域、第一發(fā)光圖案、第三子像素區(qū)域上涂布第二長(zhǎng)鏈脂肪酸層;在所述第二子像素區(qū)域和所述第二長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層上涂布第二發(fā)光層;對(duì)所述基板進(jìn)行灰化處理,去除所述第二長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層,形成第二發(fā)光圖案;在所述像素間隔區(qū)域、第一發(fā)光圖案、第二發(fā)光圖案上涂布第三長(zhǎng)鏈脂肪酸層;在所述第三子像素區(qū)域和所述第三長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層上涂布第三發(fā)光層;對(duì)所述基板進(jìn)行灰化處理,去除所述第三長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層,形成第三發(fā)光圖案;形成陰極。
本發(fā)明還提供了一種OLED顯示裝置的制作方法,包括:形成第一基板,包括在所述第一基板上形成多個(gè)OLED像素;形成第二基板;通過玻璃料貼合所述第一基板與第二基板,形成所述OLED顯示裝置。其中,所述OLED像素至少包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述在第一基板上形成多個(gè)OLED像素包括:在所述第一基板上形成陽極、像素定義層,所述像素定義層包括多個(gè)與所述第一子像素對(duì)應(yīng)的第一子像素區(qū)域、多個(gè)與所述第二子像素對(duì)應(yīng)的第二子像素區(qū)域、多個(gè)與所述第三子像素對(duì)應(yīng)的第三子像素區(qū)域以及像素間隔區(qū)域,所述第一子像素、第二子像素和第三子像素之間通過所述像素間隔區(qū)域彼此間隔開;在所述像素間隔區(qū)域、第二子像素區(qū)域、第三子像素區(qū)域上涂布第一長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層;在所述第一子像素區(qū)域和所述第一長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層上涂布第一發(fā)光層;對(duì)所述第一基板進(jìn)行灰化處理,去除所述第一長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層,形成第一發(fā)光圖案;在所述像素間隔區(qū)域、第一發(fā)光圖案、第三子像素區(qū)域上涂布第二長(zhǎng)鏈脂肪酸層;在所述第二子像素區(qū)域和所述第二長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層上涂布第二發(fā)光層;對(duì)所述第一基板進(jìn)行灰化處理,去除所述第二長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層,形成第二發(fā)光圖案;在所述像素間隔區(qū)域、第一發(fā)光圖案、第二發(fā)光圖案上涂布第三長(zhǎng)鏈脂肪酸層;在所述第三子像素區(qū)域和所述第三長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層上涂布第三發(fā)光層;對(duì)所述第一基板進(jìn)行灰化處理,去除所述第三長(zhǎng)鏈脂肪酸脂層,形成第三發(fā)光圖案;形成陰極。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司,未經(jīng)上海天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310385786.9/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





