[發明專利]磁性納米顆粒的清潔設備以及磁性納米顆粒的清潔方法無效
| 申請號: | 201310385093.X | 申請日: | 2013-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN103769385A | 公開(公告)日: | 2014-05-07 |
| 發明(設計)人: | 徐正旭;金兌浩;柳榮球;金光明;李寬;金東勛 | 申請(專利權)人: | 三星電機株式會社 |
| 主分類號: | B08B3/12 | 分類號: | B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B13/00;B03C1/02 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;李靜 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁性 納米 顆粒 清潔 設備 以及 方法 | ||
1.一種磁性納米顆粒的清潔設備,包括:
清潔槽,溶劑和磁性納米顆粒被供應到所述清潔槽內;
磁體構件,所述磁體構件形成于所述清潔槽的下部處以分離所述磁性納米顆粒;以及
排出裝置,所述排出裝置將從中分離出所述磁性納米顆粒的所述溶劑排出。
2.根據權利要求1所述的磁性納米顆粒的清潔設備,進一步包括:
攪動器,所述攪動器攪動被供應到所述清潔槽內的所述溶劑和所述磁性納米顆粒。
3.根據權利要求1所述的磁性納米顆粒的清潔設備,進一步包括:
超聲波發生器,所述超聲波發生器形成于所述清潔槽的一側處。
4.根據權利要求1所述的磁性納米顆粒的清潔設備,其中,所述清潔槽的下部向一側傾斜。
5.根據權利要求1所述的磁性納米顆粒的清潔設備,其中,所述清潔槽的下部以漏斗形狀傾斜。
6.根據權利要求1所述的磁性納米顆粒的清潔設備,其中,所述磁體構件由永磁體或電磁體形成。
7.根據權利要求1所述的磁性納米顆粒的清潔設備,其中,所述排出裝置包括:
排出管,所述溶劑通過所述排出管排出;
泵,所述泵與所述排出管的一端相連接;以及
過濾器,所述過濾器形成于所述排出管的另一端處并且浸入所述清潔槽中。
8.根據權利要求7所述的磁性納米顆粒的清潔設備,其中,所述排出管被形成為使得根據所述清潔槽中的溶劑和磁性納米顆粒的量來控制所述排出管的浸入所述清潔槽中的高度。
9.一種磁性納米顆粒的清潔方法,包括:
將包含磁性納米顆粒的溶液供應到清潔槽內,所述清潔槽具有形成于所述清潔槽的下部的磁體構件;
從供應到所述清潔槽內的所述溶液中回收所述磁性納米顆粒;
通過將清潔溶劑供應到所述清潔槽內來清潔所述磁性納米顆粒;以及
回收已清潔的磁性納米顆粒。
10.根據權利要求9所述的磁性納米顆粒的清潔方法,其中,在回收已清潔的磁性納米顆粒之后,反復進行通過更換所述清潔溶劑來清潔所述磁性納米顆粒以及回收已清潔的磁性納米顆粒。
11.根據權利要求9所述的磁性納米顆粒的清潔方法,其中,從所述溶液中回收所述磁性納米顆粒包括:
通過向所述磁體構件施加磁場來分離所述磁性納米顆粒;以及
將從中分離出所述磁性納米顆粒的所述溶劑排出。
12.根據權利要求9所述的磁性納米顆粒的清潔方法,其中,清潔所述磁性納米顆粒包括:
將清潔溶劑供應到所述清潔槽內并且除去施加于所述磁性納米顆粒的磁場;
攪動所述清潔溶劑和所述磁性納米顆粒;以及
將超聲波施加于所述磁性納米顆粒。
13.根據權利要求9所述的磁性納米顆粒的清潔方法,其中,回收已清潔的磁性納米顆粒包括:
通過向所述磁體構件施加磁場來分離所述磁性納米顆粒;以及
將從中分離出所述磁性納米顆粒的所述清潔溶劑排出。
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