[發明專利]電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備有效
| 申請號: | 201310384715.7 | 申請日: | 2013-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN103676507A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發明(設計)人: | 西田孟;久野純平;渡口要;川原正隆;田中正人 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G5/047 | 分類號: | G03G5/047;G03G5/06;G03G5/14;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 感光 構件 處理 設備 | ||
技術領域
本發明涉及電子照相感光構件以及各自包括所述電子照相感光構件的處理盒和電子照相設備。
背景技術
已開發各種用于電子照相感光構件的電荷產生物質。這些物質中,經常使用具有高感光度的酞菁顏料。
然而,伴隨電子照相感光構件的高感光度化,通過從處理盒或電子照相設備的外部穿透的光易于引起電子照相感光構件的光存儲(photomemory)。近年來,這需要進行改進。術語光存儲表示載流子在用光照射的部分(照射部)中累積從而引起照射部與未用光照射的部分(非照射部)之間的電位差的現象,這會引起圖像品質(圖像再現性)降低。
日本專利特開2006-72304和2008-15532公開了組合使用酞菁顏料和有機電子受體化合物的技術,以及電荷產生層包括具有電子受體分子的顏料敏化摻雜劑的技術。
然而,使用日本專利特開2006-72304和2008-15532中公開的技術沒有導致光存儲的充分改進。
發明內容
本發明的方面提供抑制光存儲發生的電子照相感光構件,以及各自包括電子照相感光構件的處理盒和電子照相設備。
本發明的一個公開方面提供具有支承體以及在支承體上形成的感光層的電子照相感光構件,其中感光層具有酞菁顏料和由下述式(1)表示的二氰基乙烯化合物。
本發明的另一方面提供具有支承體、在支承體上形成的底涂層以及在底涂層上形成的感光層的電子照相感光構件,其中底涂層具有由下述式(1)表示的二氰基乙烯化合物,感光層具有酞菁顏料。
其中,式(1)中,R1和R2各自獨立地表示未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基、未取代或取代的吡啶基、未取代或取代的噻吩基、未取代或取代的哌啶基或者取代的氨基。
本發明的另一方面提供可拆卸地安裝至電子照相設備主體的處理盒,其中處理盒一體化地支承上述電子照相感光構件以及選自由充電裝置、顯影裝置和清潔裝置組成的組的至少一種裝置。
本發明的另一方面提供具有上述電子照相感光構件、充電裝置、曝光裝置、顯影裝置和轉印裝置的電子照相設備。
參考附圖,從以下示例性實施方案的描述,本發明的進一步特征將變得顯而易見。
附圖說明
圖1示出包括具有根據本發明實施方案的電子照相感光構件的處理盒的電子照相設備的示意性結構。
具體實施方式
根據本發明實施方案的電子照相感光構件包含由下式(1)表示的二氰基乙烯化合物:
其中,式(1)中,R1和R2各自獨立地表示未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基、未取代或取代的吡啶基、未取代或取代的噻吩基、未取代或取代的哌啶基或者取代的氨基。
烷基的實例包括甲基、乙基、丙基和丁基。芳基的實例包括苯基和萘基。
可連接至基團的取代基的實例包括烷基,如甲基、乙基、丙基和丁基;芳基,如苯基、萘基和菲基(phenalenyl);鹵原子,如氟原子、氯原子和溴原子;烷基取代的氨基,如二甲氨基和二乙氨基;羥烷基取代的氨基,如雙(羥甲基)氨基和雙(羥乙基)氨基;羥基取代的氨基,如二羥基氨基;芳基取代的氨基,如二苯基氨基、二甲苯基氨基和二甲芐基氨基(dixylylamino?group);氨基(未取代的氨基);以及羥基。
在電子照相感光構件包括支承體和在支承體上配置的感光層,以及感光層包含酞菁顏料的情況下,感光層可進一步包含由上述式(1)表示的二氰基乙烯化合物。在感光層包括電荷產生層和在電荷產生層上配置的電荷輸送層的情況下,電荷產生層中可包含酞菁顏料和由式(1)表示的二氰基乙烯化合物。
在電子照相感光構件包括支承體、在支承體上配置的底涂層和在底涂層上配置的感光層,以及感光層包含酞菁顏料的情況下,底涂層可包含由式(1)表示的二氰基乙烯化合物。在感光層包括電荷產生層和在電荷產生層上配置的電荷輸送層的情況下,電荷產生層中可包含酞菁顏料。除了在底涂層中以外還可在感光層(電荷產生層)中包含由式(1)表示的二氰基乙烯化合物。
式(1)中,R1和R2可各自表示用吡啶基、哌啶基、烷基或芳基取代的氨基,或者用仲胺或叔胺取代的芳基。
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