[發(fā)明專利]用于模擬高光譜圖像的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310384619.2 | 申請日: | 2013-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN103679784B | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | E.D.比勒;B.T.奧基平蒂;K.R.庫琴斯基;M.J.謝弗 | 申請(專利權(quán))人: | 通用電氣航空系統(tǒng)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G06T15/50 | 分類號: | G06T15/50 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 柯廣華;湯春龍 |
| 地址: | 美國密*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 模擬 光譜 圖像 方法 | ||
1.一種高光譜圖像建模方法,所述方法包括:
通過使用三維建模工具利用對象和素材建造場景,
選擇至少一個高光譜帶,
改變所述場景中的每個對象和素材的反射率,使其符合所述至少一個高光譜帶中的反射率,
針對所述場景中的每個對象和素材改變至少一個光譜來源的發(fā)射率,使其符合所述至少一個高光譜帶中的所述至少一個光譜來源的發(fā)射率,
渲染所述場景以便生成第一幀,
選擇至少另一個高光譜帶,
改變所述場景中的每個對象和素材的反射率,使其符合所述至少另一個高光譜帶中的反射率,
針對所述場景中的每個對象和素材改變至少一個光譜來源的發(fā)射率,使其符合所述至少另一個高光譜帶中的所述至少一個光譜來源的發(fā)射率,
渲染所述場景以便生成第二幀,以及
將所述第一幀和所述第二幀組合成高光譜幀。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中渲染所述場景以便生成所述第一幀或所述第二幀包括以下步驟:將所述場景轉(zhuǎn)換成二維圖像。
3.如權(quán)利要求1所述的方法,其中渲染所述場景以便生成所述第一幀或所述第二幀包括以下步驟:改變光譜響應(yīng)以模擬實際傳感器。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其中渲染所述場景以便生成所述第一幀包括以下步驟:針對所述至少一個高光譜帶中的每個高光譜帶單獨渲染每個幀。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其中渲染所述場景以便生成所述第二幀包括以下步驟:針對所述至少另一個高光譜帶中的每個高光譜帶單獨渲染每個幀。
6.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述至少一個高光譜帶或所述至少另一個高光譜帶是16個鄰近的高光譜帶。
7.如權(quán)利要求1所述的方法,其中所述至少一個高光譜帶或所述至少另一個高光譜帶大于三個高光譜帶。
8.如權(quán)利要求1所述的方法,其中實時處理所述第二幀。
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