[發明專利]一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法

無效

• 申請號: 201310383969.7
• 申請日: 2013-08-29
• 公開（公告）號: CN103500043A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發明（設計）人: 王進東
• 申請（專利權）人: 江蘇宇天港玻新材料有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044;G06F3/041
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 朱慶華

技術領域

本發明涉及觸摸屏應用技術領域，特別涉及一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法。

背景技術

單玻璃全貼合技術（One?Glass?Solution，OGS)是在保護玻璃上直接形成ITO氧化銦錫導電膜及傳感器的技術。一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用。從技術層面來看,OGS技術較之目前主流的G/G觸控技術具備以下優勢:結構簡單,輕、薄、透光性好；由于省掉一片玻璃基板以及貼合工序,利于降低生產成本、提高產品良率。目前比較主流的OGS觸摸屏基本上都是金屬搭橋式傳感器（sensor），雖然此技術能夠達到產品質量的保證，但是金屬鍍膜以及相應黃光工藝無疑是成本倍增、質量控制的難題。金屬搭橋線在光線照射下還是能夠清晰看見金屬連接線發白的現象，影響了終端客戶使用的玩機心情。

圖1所示為現有OGS觸摸屏的結構示意圖，其包括透明基板10、在透明基板10上依次形成的圖案化的黑矩陣層20、ITO層30、絕緣層40和保護層50，此種OGS觸摸屏生產流程為：a.在透明基板10的感應面印刷或黃光車間制作黑矩陣層（BM層）；b.轉至鍍膜車間在感應面濺射ITO層；c.轉至黃光車間在感應面進行ITO?光刻或激光刻線；d.感應面進行PI搭橋；e.至鍍膜車間進行感應面金屬鉬鋁鉬（Mo-Al-Mo）鍍膜；f.?對鉬鋁鉬層進行光刻或激光刻線；g.感應面鍍膜或印刷保護層。

現有此種OGS技術為金屬橋接形成回路的電容觸摸屏技術，雖然此技術能夠達到產品質量的保證，但是生產成本投入大，良率一般，整體看上去有矩陣一樣的金屬連接線，給終端客戶帶來不舒服的感覺。

發明內容

本發明提出一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法，只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優點。本發明所采用的技術方案具體是這樣實現的：

一方面，本發明提供了一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面側的防污層以及位于所述透明基板感應面側依次形成的圖案化的黑矩陣層、圖案化的第一ITO層、絕緣層、圖案化的第二ITO層和保護層。

優選地，所述黑矩陣層采用印刷或者光刻工藝形成。

優選地，所述第一ITO層和所述第二ITO層均采用磁控濺射工藝形成。

優選地，所述圖案化的第一ITO層和所述第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝形成。

優選地，所述防污層采用磁控濺射工藝形成。

另一方面，本發明還提供一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法，其包括步驟：

1）在透明基板的感應面側采用印刷或者光刻工藝制作圖案化的黑矩陣層；

2）接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層；

3）對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第一ITO層；

4）在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層；

5）在絕緣層上形成第二ITO層；

6）在透明基板的觸摸面側形成防污層；

7）對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化，形成圖案化的第二ITO層；

8）在透明基板的感應面側濺射或者印刷保護層。

優選地，所述步驟6）中采用濺射工藝形成防污層。

本發明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法，只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優點。

附圖說明

圖1是現有OGS觸摸屏的結構示意圖。

圖2是本發明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的結構示意圖。

具體實施方式

為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的具體實施方式做詳細的說明，使本發明的上述及其它目的、特征和優勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標記指示相同的部分。并未刻意按比例繪制附圖，重點在于示出本發明的主旨。

圖2是本發明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的結構示意圖。如圖2所示，本發明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏，其包括透明基板100、位于透明基板100觸摸面側的防污層700以及位于透明基板100感應面側依次形成的圖案化的黑矩陣層200、圖案化的第一ITO層300、絕緣層400、圖案化的第二ITO層500和保護層600。