[發(fā)明專(zhuān)利]薄膜沉積設(shè)備、制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310381944.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-04-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103474447A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋正培;崔凡洛;李相泌;宋泳錄 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/32 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56;C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓芳;薛義丹 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 沉積 設(shè)備 制造 有機(jī) 發(fā)光 顯示裝置 方法 | ||
本申請(qǐng)要求于2010年4月28日向韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2010-0039496號(hào)韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)并主張其權(quán)益,該申請(qǐng)的公開(kāi)通過(guò)引用而整體包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例涉及一種薄膜沉積設(shè)備、一種通過(guò)使用該薄膜沉積設(shè)備來(lái)制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法及一種通過(guò)利用該方法而制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。
背景技術(shù)
有機(jī)發(fā)光顯示裝置比其他顯示裝置具有更大的視角、更好的對(duì)比特性以及更快的響應(yīng)速率,由此作為下一代顯示裝置而已經(jīng)吸引了注意。
有機(jī)發(fā)光顯示裝置通常具有包括陽(yáng)極、陰極和設(shè)置在陽(yáng)極和陰極之間的發(fā)射層的堆疊結(jié)構(gòu)。當(dāng)分別從陽(yáng)極和陰極注入的空穴和電子在發(fā)射層中復(fù)合并由此發(fā)光時(shí),顯示裝置顯示有顏色的圖像。然而,這樣的結(jié)構(gòu)難以實(shí)現(xiàn)高的發(fā)光效率,由此,選擇性地將包括電子注入層、電子傳輸層、空穴傳輸層、空穴注入層等的中間層額外地設(shè)置在發(fā)射層與每個(gè)電極之間。
此外,實(shí)際上在有機(jī)薄膜中形成諸如發(fā)射層和中間層的精細(xì)的圖案非常困難,并且紅光發(fā)射效率、綠光發(fā)射效率和藍(lán)光發(fā)射效率根據(jù)有機(jī)薄膜而改變。由于這些原因,不容易通過(guò)利用傳統(tǒng)的薄膜沉積設(shè)備在諸如具有5G或更大尺寸的母玻璃之類(lèi)的大的基底上形成有機(jī)薄膜,由此難以制造具有令人滿意的驅(qū)動(dòng)電壓、電流密度、亮度、色純度、發(fā)光效率、壽命特性的大的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。
有機(jī)發(fā)光顯示裝置包括中間層,中間層包括設(shè)置在彼此相對(duì)布置的第一電極和第二電極之間的發(fā)射層。可通過(guò)各種方法形成電極和中間層,各種方法中的一種方法是沉積方法。當(dāng)通過(guò)利用沉積方法來(lái)制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置時(shí),將與要形成的薄膜具有相同圖案的精細(xì)金屬掩模(FMM)設(shè)置得緊密接觸基底并將薄膜材料沉積在整個(gè)FMM上,以形成具有期望圖案的薄膜。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例提供了一種薄膜沉積設(shè)備、利用該薄膜沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法以及利用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示裝置,該薄膜沉積設(shè)備可容易制造,可被簡(jiǎn)單地應(yīng)用于大規(guī)模制造大尺寸的顯示裝置,提高生產(chǎn)率和沉積效率。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種薄膜沉積設(shè)備以在基底上產(chǎn)生薄膜,該薄膜沉積設(shè)備包括多個(gè)薄膜沉積組件,每個(gè)薄膜沉積組件包括:沉積源,包括沉積材料,所述沉積源排放沉積材料;沉積源噴嘴單元,布置在所述沉積源的一側(cè)并包括沿第一方向布置的多個(gè)沉積源噴嘴;圖案化縫隙片,與所述沉積源噴嘴單元相對(duì)地布置并具有沿所述第一方向布置的多個(gè)圖案化狹縫;阻擋板組件,包括沿所述第一方向布置的多個(gè)阻擋板,所述阻擋板組件布置在所述沉積源噴嘴單元和所述圖案化縫隙片之間,所述阻擋板組件將所述沉積源噴嘴單元和所述圖案化縫隙片之間的空間劃分為多個(gè)子空間,其中,所述薄膜沉積設(shè)備與所述基底分開(kāi)一定的距離,所述薄膜沉積設(shè)備和所述基底能相對(duì)彼此移動(dòng),所述沉積材料包括產(chǎn)生薄膜的材料,所述薄膜選自于由紅光(R)發(fā)射層、綠光(G)發(fā)射層、藍(lán)光(B)發(fā)射層和多個(gè)輔助層組成的組中。
薄膜沉積組件的數(shù)量可以是至少五個(gè),分別布置在至少五個(gè)薄膜沉積組件的沉積源中的沉積材料可包括用來(lái)順序地形成B發(fā)射層、多個(gè)輔助層中的一個(gè)輔助層、G發(fā)射層、多個(gè)輔助層中的另一個(gè)輔助層和R發(fā)射層的材料。薄膜沉積組件的數(shù)量可以是至少五個(gè),分別布置在至少五個(gè)薄膜沉積組件的沉積源內(nèi)的沉積材料可包括用來(lái)順序地形成B發(fā)射層、多個(gè)輔助層中的一個(gè)輔助層、R發(fā)射層、多個(gè)輔助層中的另一個(gè)輔助層和G發(fā)射層的材料。沉積材料可分別布置在多個(gè)薄膜沉積組件的沉積源內(nèi),也可順序地布置在基底上。薄膜沉積設(shè)備和基底中的一個(gè)與薄膜沉積設(shè)備和基底中的另一個(gè)可沿平行于基底的表面的平面能相對(duì)彼此移動(dòng),沉積材料沉積在基底的所述表面上。所述多個(gè)薄膜組件的圖案化縫隙片可比所述基底小。可單獨(dú)地控制多個(gè)薄膜沉積組件的沉積源的沉積溫度。每個(gè)薄膜沉積組件的阻擋板組件可形成從沉積源排放的沉積材料的流動(dòng)路徑。每個(gè)阻擋板可沿與所述第一方向基本上垂直的第二方向延伸并將沉積源噴嘴單元與圖案化縫隙片之間的空間劃分為多個(gè)子沉積空間。
每個(gè)阻擋板組件可包括第一阻擋板組件和第二阻擋板組件,第一阻擋板組件包括多個(gè)第一阻擋板,第二阻擋板組件包括多個(gè)第二阻擋板。每個(gè)第一阻擋板和每個(gè)第二阻擋板可沿基本上垂直于所述第一方向的第二方向延伸并將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間劃分為多個(gè)子沉積空間。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于三星顯示有限公司,未經(jīng)三星顯示有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310381944.3/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





