[發明專利]閃爍體板和放射線檢測面板有效
| 申請號: | 201310379152.2 | 申請日: | 2013-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN103675885A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發明(設計)人: | 近藤真史;板屋敬子 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | G01T1/20 | 分類號: | G01T1/20 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 金世煜;趙曦 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 閃爍 放射線 檢測 面板 | ||
技術領域
本發明涉及能夠在間接轉換方式的平板探測器〔FPD〕中使用的閃爍體板、由該閃爍體板構成的放射線檢測面板以及它們的制造方法。
背景技術
以往,如X射線圖像那樣的放射線圖像在醫療領域被廣泛用于病癥的診斷。特別是基于增感紙-膜系的放射線圖像在長期發展中實現了高靈敏化和高畫質化,結果作為同時具有高可靠性和優異的性價比的攝像系統,至今仍在世界范圍的醫療領域使用。然而,這些圖像信息為所謂的模擬圖像信息,無法進行如近年來不斷發展的數字圖像信息那樣的自由的圖像處理、瞬時的傳送。
而且,近年來出現了以計算機X線攝影〔CR〕、平板型的放射線探測器(平板探測器)〔FPD〕等為代表的經數字處理的放射線圖像檢測裝置。它們能夠直接得到被數字化的放射線圖像,在陰極管、液晶面板等圖像顯示裝置上直接顯示圖像,因此,不需要在照片膜上形成圖像。其結果,這些X射線圖像檢測裝置減少了利用銀鹽照相方式形成圖像的必要性,大幅提高了在醫院、診療所的診斷操作的便利性。
作為X射線圖像的數字技術之一的計算機X線攝影〔CR〕現在已經在醫療領域應用。但是,清晰性不充分且空間分辨率也不充分,沒有達到屏·膜系統的畫質等級。而且,作為更新型的數字X射線圖像技術,開發出例如在雜志Physics?Today的1997年11月號第24頁的John?Rowlands論文“Amorphous?Semiconductor?Usher?in?Digital?X-ray?Imaging”、雜志SPIE的1997年32卷第2頁的L.E.Antonuk論文“Development?of?a?High?Resolution,Active?Matrix,Flat-Panel?Imager?with?Enhanced?Fill?Factor”等中記載的使用薄膜晶體管〔TFT〕的平板探測器〔FPD〕。
為了將放射線轉換成可見光,使用由具有利用放射線進行發光的特性的X射線熒光體制作的閃爍體,為了提高低射線量的攝影中的S/N比,必須使用發光效率高的閃爍體。通常閃爍體的發光效率取決于熒光體層的厚度、熒光體的X射線吸收系數,熒光體層的厚度越厚,越容易發生熒光體層內的發射光的散射,清晰性降低。與此相對,若規定畫質所需的清晰性,則要限定層厚,但發光亮度會降低。
例如,在專利文獻1中公開的閃爍體面板是在鋁基板的一個表面依次層疊由鋁構成的金屬反射層、SiO2膜(第1電介質層)和TiO2膜(第2電介質層),而且反射膜保護膜覆蓋連同鋁基板在內的這些整體,由此構成支撐體,在支撐體的TiO2膜上的反射膜保護膜表面設有閃爍體(摻雜Ti或Na等的CsI的柱狀結晶等)。由于與SiO2膜相比TiO2膜的折射率更高,所以來自閃爍體的發射光的反射率變大,其結果,發光亮度提高。
另外,在專利文獻2中,公開了一種在支撐體上具有閃爍體和光檢測器、且以放射線依次入射到光檢測器、閃爍體的方式配置的放射線圖像檢測器,上述閃爍體含有由例如鉈激活碘化銫構成的柱狀結晶而構成,在閃爍體的放射線入射側存在柱狀結晶區域,在與閃爍體的入射側相反的一側存在非柱狀結晶區域。在柱狀結晶區域,得到高效率的發光的柱狀結晶存在于光檢測器附近,柱狀結晶的間隙成為光的導軌而抑制光擴散由此抑制圖像的模糊,并且到達閃爍體深部的光還能在非柱狀結晶區域被反射,發光亮度提高。
在專利文獻3中,公開了一種放射線圖像轉換面板,是在基板上具有底襯層和熒光體層的放射線圖像轉換面板,熒光體層由利用氣相沉積法用熒光體母體化合物和激活劑形成的熒光體的柱狀結晶構成,且熒光體的柱狀結晶的具有例如(200)的晶面指數的面的基于X射線衍射光譜的取向度與熒光體層的厚度方向的位置無關,在80~100%的范圍內。由此,防止熒光體的柱狀結晶的結構的散亂,抑制熒光體受X射線照射而發光并在光電轉換元件方向傳播的光成分的散射、折射,從而放射線圖像轉換面板的發光亮度提高。
如專利文獻1那樣即便提高了反射層的反射率,但柱狀結晶根部的透光率低(專利文獻2),沒有發揮本來的能力,因此不能說發光亮度的提高充分,另外雖有柱狀結晶根部的改善技術(專利文獻3),但尚有改善的余地。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2009-103676號公報
專利文獻2:日本特開2011-017683號公報
專利文獻3:國際公開第2011/089946號
發明內容
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