[發明專利]一種在窯變釉面上移印后噴鐵系析晶釉的方法

有效

• 申請號: 201310376215.9
• 申請日: 2013-08-27
• 公開（公告）號: CN103449844A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 林智;潘俊明
• 申請（專利權）人: 湖南泰鑫瓷業有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 株洲市奇美專利商標事務所 43105
• 代理人: 肖美哲

技術領域

本發明涉及一種在窯變釉面上移印后噴鐵系析晶釉的方法；它屬日用陶瓷制品釉面裝飾制作方法。

背景技術

目前,在陶瓷制品上移印圖案時，大多數就是采用阻水油，然后直接填色；這樣生產出來的產品，其效果是：移印線條較粗，凹坑明顯且寬，釉色較呆板；而且不具有自然的肌理效果，光亮的層次感差。

發明內容

本發明的目的在于克服上述不足和缺陷，提供一種在窯變釉面上移印后噴鐵系析晶釉的方法；所得釉面呈現出窯變釉與析晶釉交織獨特的自然肌理和清晰光亮層次感效果。

本發明的技術方案：一種在窯變釉面上移印后噴鐵系析晶釉的方法，其特征在于所述的該方法是將陶瓷制品粗坯滾壓成形及素燒、施內釉、施外釉，移印圖案，噴鐵系析晶釉，干燥，送入窯爐燒制而成，具體步驟如下：

A、將陶瓷制品粗坯滾壓成形、干燥、洗水整修后，進行素燒，素燒溫度為600℃，素燒時間為5小時；

B、施內釉，將素燒后的粗坯放置于施釉機上施內釉，內釉為窯變釉，內釉的濃度為58-61波美度；

C、沾外釉，按常規方法進行，外釉是根據設計的需要而定，外釉的濃度為49-52波美度；

D、在內釉為窯變釉的釉面上移印圖案，移印圖案的移印液由熔塊和強熔劑按其重量配比配兌成移印粉料，再將移印粉料與阻水油按按其重量配比混合均勻即成移印液；即熔塊與強熔劑按7:1配兌成移印粉料，再將移印粉料與阻水油按1:1混合均勻即成移印液，上述熔塊為市售常用熔塊;

E、移印圖案后，在移印圖案整個面上進行噴霧狀鐵系析晶釉，鐵系析晶釉的釉漿濃度為62-65波美度，噴霧狀鐵系析晶釉次數為3次；

F、將噴有鐵系析晶釉的釉坯置于空氣中自然干燥后，裝入窯內，經1180-1200℃氧化氣氛燒制即成，燒成周期為4-4.5小時。

本發明是通過運用窯變釉與鐵系析晶釉的特點巧妙結合，再加上圖案設計輔加其中，經過1180-1200℃氧化氣氛燒成，所得釉面呈現出自然的肌理效果，光亮層次感清晰，凸現窯變釉與析晶釉交織的窯變釉的獨特效果。

附圖說明

圖1為本發明生產陶瓷制品（盤式產品）的效果照片。

具體實施方式

一種在窯變釉面上移印后再噴鐵系析晶釉的方法，其特征在于所述的該方法是將陶瓷制品粗坯滾壓成形及素燒、施內釉，施外釉，移印圖案，噴鐵系析晶釉，干燥，送入窯爐燒制而成，具體步驟如下：

A、將陶瓷制品粗坯滾壓成形、干燥、洗水整修后，進行素燒，素燒溫度為600℃，素燒時間為5小時；

B、施內釉，將素燒后的粗坯放置于施釉機上施內釉，內釉為窯變釉，內釉的濃度為58-61波美度；

C、沾外釉，按常規方法進行，外釉是根據設計的需要而定，外釉的濃度為49-52波美度；

D、在內釉為窯變釉的釉面上移印圖案，移印圖案的移印液由熔塊和強熔劑按其重量配比配兌成移印粉料，再將移印粉料與阻水油按按其重量配比混合均勻即成移印液；即熔塊與強熔劑按7:1配兌成移印粉料，再將移印粉料與阻水油按1:1混合均勻即成移印液，上述熔塊為市售常用熔塊;強熔劑是由氧化鋅、氧化鉛、碳酸鋰等原料配制而成的，即強熔劑為市售品，各化工原料公司都有售；

E、移印圖案后，在移印圖案整個面上進行噴霧狀鐵系析晶釉，鐵系析晶釉的釉漿濃度為62-65波美度，噴霧狀鐵系析晶釉次數為3次；

F、將噴有鐵系析晶釉的釉坯置于空氣中自然干燥后，裝入窯內，經1180-1200℃氧化氣氛燒制即成，燒成周期為44.5小時。

本發明通過上述方法生產的陶瓷制品，所得釉面呈現出自然的肌理效果，光亮層次感清晰，凸現窯變釉與析晶釉交織的窯變釉的獨特效果；即本發明是通過運用窯變釉與鐵系析晶釉的特點巧妙結合，再加上圖案設計輔加其中，經過1180-1200℃氧化氣氛燒制即成。