[發明專利]反射IR的層系統的保護層，反射IR的層系統和其制造方法

在審

• 申請號: 201310376136.8
• 申請日: 2013-08-26
• 公開（公告）號: CN103625026A
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 克里斯多佛·科克爾特
• 申請（專利權）人: 馮·阿德納設備有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B17/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 楊靖;車文

1.一種反射IR的層系統的保護層，所述反射IR的層系統布置在基底上，所述保護層向上封閉所述反射IR的層系統，其特征在于，所述保護層由氮氧化鈦作為主要成分構成并且所述保護層具有在幾納米范圍內的層厚以及具有非晶態的結構。

2.根據權利要求1所述的保護層，其特征在于，所述保護層的層厚在幾納米范圍內，優選在2nm至7nm范圍內。

3.根據權利要求1或2所述的保護層，其特征在于，所述保護層的表面具有在小于1nm范圍內的RMS粗糙度。

4.按前述權利要求任一項所述的保護層，其特征在于，所述保護層具有如下這樣的耐磨強度：用泰伯磨耗試驗機測試得出小于1%范圍內的由于保護層磨損的透射率提高。

5.根據權利要求1至3任一項所述的保護層，其特征在于，所述保護層具有小于50%范圍內的鋁的份額。

6.一種反射IR的層系統，其布置在基底上并且從基底向上包括至少具有基層的基層布置、至少具有功能層的功能層布置和具有至少一個抗反射覆蓋層的覆蓋層布置，其特征在于，在所述層系統上布置有根據前述權利要求任一項所述的機械的保護層。

7.一種用于制造反射IR的層系統的保護層的方法，其方式是在所述反射IR的層系統上借助陰極濺射來沉積出層，其特征在于，其主要組成部分由氮氧化鈦構成的保護層由陶瓷的、亞化學計量的氧化鈦靶在濺射氣氛中存在氬和氮的情況下，或者由金屬的鈦靶在濺射氣氛中存在氬、氧和氮的情況下以幾納米范圍內的層厚來沉積，并且所述保護層具有非晶態的結構。

8.根據權利要求7所述的用于制造反射IR的層系統的保護層的方法，其特征在于，所述保護層的層厚在2nm至7nm的范圍內。

9.根據權利要求7或8所述的用于制造反射IR的層系統的保護層的方法，其特征在于，所述濺射氛圍包含氧氣。

10.根據權利要求7至9任一項所述的用于制造反射IR的層系統的保護層的方法，其特征在于，所述沉積借助MF濺射來進行。

11.一種用于制造反射IR的層系統的方法，其中，在基底上借助陰極濺射依次沉積具有至少一個基層的基層布置、具有至少一個功能層的功能層布置和具有至少一個抗反射覆蓋層的覆蓋層布置，其特征在于，根據權利要求7至10任一項所述將保護層以向上封閉所述層系統的方式沉積在所述覆蓋層布置上。