[發明專利]用于確定過程參數的測量裝置

在審

• 申請號: 201310374228.2
• 申請日: 2013-06-26
• 公開（公告）號: CN103512601A
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發明（設計）人: C·巴貝爾
• 申請（專利權）人: 克羅內分析學有限責任公司
• 主分類號: G01D11/00
• 分類號: G01D11/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊國治

1.一種用于確定至少一個過程參數的測量裝置(1)，其帶有用于測量所述過程參數的至少一個傳感元件(2)和帶有至少部分地包圍所述傳感元件(2)的至少一個套筒(10)，其中，所述套筒(10)的內壁具有至少兩個凹部(11、12)，且其中，所述套筒(10)至少在至少兩個所述凹部(11、12)的區域中包圍至少一個空間，其特征在于，至少兩個所述凹部(11、12)圍出不同的橫截面面積。

2.根據權利要求1所述的測量裝置(1)，其特征在于，至少兩個所述凹部(11、12)圍出帶有不同半徑的部分圓形的橫截面面積。

3.根據權利要求2所述的測量裝置(1)，其特征在于，多個凹部(11)圍出帶有大致相同的較小的半徑的部分圓形的橫截面面積而凹部(12)圍出帶有較大半徑的部分圓形的橫截面面積。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述套筒(10)至少部分地大致玫瑰狀地來設計。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，至少兩個所述凹部(11、12)至少逐段地在軸向上大致平行于所述套筒(10)的縱軸線(13)延伸。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，設置有至少一個電路板(3)，設置有大致設計為柱狀銷的至少一個保持元件(5)，所述保持元件(5)在端部處具有用于容納所述電路板(3)的部段的凹槽(6)，并且所述電路板(3)固定在所述傳感元件(2)與所述保持元件(5)之間。

7.根據權利要求6所述的測量裝置(1)，其特征在于，設置有至少一個殼體(7)，其至少部分地包圍至少所述電路板(3)、所述保持元件(5)和所述傳感元件(2)并且在所述內壁處具有用于電磁屏蔽的金屬化部。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，所述傳感元件(2)用于測量pH值和/或氯含量和/或氧含量和/或導電性和/或消毒參數和/或渾濁度。

9.一種尤其根據權利要求6至8中任一項所述的測量裝置(1)，其特征在于，設置有至少一個插頭芯(14)，在所述插頭芯(14)中引導有至少一個接觸件(15)，并且至少一個所述接觸件(15)與所述電路板(3)的背向所述傳感元件(2)的側面尤其固定地相接觸。