[發明專利]基于雙波長光纖干涉法探測納米微粒尺度的方法及裝置有效
| 申請號: | 201310373061.8 | 申請日: | 2013-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN103424344A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發明(設計)人: | 吳興坤;黃河;陳施潔;鄒紅梅 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | G01N15/02 | 分類號: | G01N15/02 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 周烽 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 波長 光纖 干涉 探測 納米 微粒 尺度 方法 裝置 | ||
1.一種基于雙波長光纖干涉法探測納米微粒尺度的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:兩個波長差為10-20nm的DFB/DBR激光二極管作為光源,由波分復用合波器將兩個光源發出的兩波長光束合并于一根光纖中,由隔離器防止回波至DFB/DBR激光二極管而影響其穩定性,由功率分叉器分出90-99%功率的光至準直器準直,得到雙波長準直光束,剩余1-10%功率的光為參考光;
步驟2:雙波長準直光束由分裂反射鏡左右各反射一個波長的光束,之后由大數值孔徑透鏡聚焦兩個半圓錐形光束于微納流道,產生回波,該回波通過波分解復用器后,用功率合成器輸入于兩個獨立的帶PGC調制的邁克爾遜干涉儀中;
步驟3:參考光的固定相位差和振動幅度M的相位由壓電陶瓷帶動微反射鏡調制后,輸入于步驟2所述兩個獨立的帶PGC調制的邁克爾遜干涉儀中;參考光和回波的光強度由電控光纖可調衰減器調節至1:1后,在邁克爾遜干涉儀的干涉臂中產生干涉,產生的干涉信號由24位以上ADC模數轉換器轉換后由DSP取樣;
步驟4:提取并處理干涉數據:當納米微粒通過微納流道內兩半圓錐形光束的聚焦區域(直徑0.5-0.7μm)時,兩個邁克爾遜干涉儀相繼收到相移信號,兩個相移信號疊加得到相移量,通過下式解出σ的數值即可得到納米微粒的尺度:
式中,E0為信號光和參考光的振幅;σ為納米微粒的散射截面,即為納米微粒的尺度;A為光束截面,Einc為探測光束振幅,I為合成光強度,I0為信號光和參考光的光強,M為調制深度,ω0為調制聲波的頻率,為調制初始相位,ψ為第三束散射光的初相位,t為時間。
2.一種實現權利要求1所述方法的基于雙波長光纖干涉法探測納米微粒尺度的裝置,其特征在于,該裝置包括:第一激光二極管(1)、第二激光二極管(2)、波分復用合波器(3)、隔離器(4)、功率分叉器(5)、功率耦合器(6)、準直器(7)、分裂雙波長反射鏡(8)、大數值孔徑透鏡(9)、微流通道(10)、第一波分解復用器(11)、衰減器(12)、第一功率合成器(13)、第一2x2耦合器(14)、折射率匹配液(15)、反射鏡(16)、壓電陶瓷(17)、偏振控制反射鏡(18)、第一光電二極管(19)、放大器(20)、模擬數字轉換器(21)、DSP芯片(22)、第二波分解復用器(23)、第三波分解復用器(24)、第二功率合成器(25)、第二2x2耦合器(26)和第二光電二極管(27)等;其中,所述第一激光二極管(1)和第二激光二極管(2)均與波分復用合波器(3)相連,波分復用合波器(3)、隔離器(4)和接功率分叉器(5)依次相連,功率分叉器(5)的輸出端分別連接功率耦合器(6)和衰減器(12),第一波分復用器(11)與功率耦合器(6)相連,功率耦合器(6)連接準直器(7),準直器(7)與分裂雙波長反射鏡(8)、大數值孔徑透鏡(9)和微流通道(10)依次相連;衰減器(12)與第三波分復用器(24)相連;第一2x2耦合器(14)的一側分別連接第三波分復用器(24)的短波輸出端和第一光電二極管(19)的輸入端,另一側分別連接第一功率合成器(13)的輸出端和折射率匹配液(15),第二2x2耦合器(26)的一側分別連接第三波分復用器(24)的長波輸出端和第二光電二極管(27)的輸入端,另一側分別連接第二功率合成器(25)的輸出端和折射率匹配液(15),第一光電二極管(19)的輸出端和第二光電二極管(27)的輸出端均與放大器(20)相連,放大器(20)通過模擬數字轉換器(21)與DSP芯片(22)相連,折射率匹配液(15)、反射鏡(16)和壓電陶瓷(17)依次相連后,與DSP芯片(22)相連;第一波分復用器(11)的短波輸出端和第二波分復用器(23)的短波輸出端均與第一功率合成器(13)的輸入端相連,第一波分復用器(11)的長波輸出端和第二波分復用器(23)的長波輸出端均與第二功率合成器(25)的輸入端相連,偏振控制反射鏡(18)與第二波分復用器(23)的輸入端相連。
3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述第一激光二極管(1)和第二激光二極管(2)可以為DFB激光二極管或DBR激光二極管。
4.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述大數值孔徑透鏡(9)的數值孔徑大于0.65。
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