[發明專利]一種研磨分散輪

有效

• 申請號: 201310371143.9
• 申請日: 2013-08-13
• 公開（公告）號: CN103433100B
• 公開（公告）日: 2016-11-09
• 發明（設計）人: 占天義
• 申請（專利權）人: 占天義
• 主分類號: B02C17/18
• 分類號: B02C17/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉研磨技術領域，特別涉及一種采用濕法研磨超細粒子的研磨分散輪。

背景技術

研磨設備中通常通過分散盤或分散輪帶動研磨球高速運動，研磨球之間相互擠壓使研磨物料破碎，實現對顆粒研磨。

現有的研磨分散輪在工作時，只能使研磨球在一個方向運動，使得研磨球容易在研磨設備內形成聚集，研磨球物料之間的接觸機率不大，研磨的效率較低。同時研磨時能量密度分布也不均勻，使得研磨設備內部的壓力布不均。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種研磨分散輪，該研磨分散輪可以使研磨球在多個方面運動，增加研磨球捕獲研磨物料機率，達到提高研磨效率技術效果，同時可以使研磨設備內部的壓力布均勻，減少研磨球聚集。

為了解決上述問題，本發明提供一種研磨分散輪，該研磨分散輪包括：設有中心通孔的本體，在本體兩側分別均勻設有分布在中心通孔周圍的軸向孔，該軸向孔與均勻分布于本體徑向的徑向盲孔形成軸向通道；在相鄰的徑向盲孔之間設有一個連通本體徑向外側和內側的徑向通孔形成的徑向通道。

進一步地說，所述本體包括隔離片和設于隔離片至少一側的分散片，其中所述分散片與隔離片配合的一側均勻設有呈V型導向條，該V型導向條的內側底部與軸向通孔連通，相鄰的兩導向條之間設有導槽。

進一步地說，所述V型導向條呈弧形離散分布，位于兩V型導向條之間的徑向導槽也呈弧形離散分布。

進一步地說，所述隔離片和分散片對應位置均勻設有固定孔。

進一步地說，所述軸向孔呈螺旋狀。

進一步地說，所述分散片沿其中軸向截面呈梯形結構，所述軸向孔位于其腰部。

本發明研磨分散輪，包括設有中心通孔的本體，在本體兩側分別均勻設有分布在中心通孔周圍的軸向孔，該軸向孔與均勻分布于本體徑向的徑向盲孔形成軸向通道；在相鄰的徑向盲孔之間設有一個連通本體徑向外側和內側的徑向通孔形成的徑向通道。由于該本體設有由的軸向孔與徑向盲孔形成軸向通道和間隔分布的徑向通道。工作時，研磨球和研磨物料在本體的軸向通道形成軸向環流和徑向通道形成徑向環流，可以研磨球在切線方向運動的同時還有一定的自轉速度，使研磨球之間產生切向扭力，增加捕獲研磨物料的機率和物料接觸時間，提高提高研磨效率。同時可以使研磨設備內部的壓力布均勻，減少研磨球聚集。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單介紹，顯而易見地，而描述中的附圖是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來說，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他附圖。

圖1是本發明研磨分散輪實施例結構示意圖。

圖2是本發明研磨分散輪另一實施例結構示意圖。

圖3是圖2中沿A-A方向結構剖視示意圖。

下面結合實施例，并參照附圖，對本發明目的的實現、功能特點及優點作進一步說明。

具體實施方式

為了使要發明的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是發明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

如圖1和圖2所示，本發明提供一種研磨分散輪實施例。

該研磨分散輪包括：設有中心通孔的本體，在本體兩側分別均勻設有分布在中心通孔11周圍的軸向孔16，該軸向孔16與均勻分布于本體徑向的徑向盲孔15連通形成軸向通道；在相鄰的徑向盲孔15之間設有一個連通本體徑向外側和內側的徑向通孔14形成的徑向通道。