[發(fā)明專利]選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310369910.2 | 申請日: | 2013-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN103628029A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔虎重;鄭基澤;姜明成;宋旭 | 申請(專利權(quán))人: | SNU精密股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 董敏;田軍鋒 |
| 地址: | 韓國忠*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 選擇性 線性 蒸發(fā) 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備,并且更特別地涉及一種使用多個(gè)線性蒸發(fā)器來分別蒸發(fā)不同的原材料并在基片上形成所需薄膜的選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備。
背景技術(shù)
一種能夠通過自身發(fā)光的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備包括以矩陣的形式連接在掃描線與數(shù)據(jù)線之間以形成像素的有機(jī)發(fā)光裝置。該有機(jī)發(fā)光裝置包括陽極電極、陰極電極、以及有機(jī)薄膜層,該有機(jī)薄膜層形成在陽極電極與陰極電極之間并且包括孔傳輸層、有機(jī)發(fā)光層以及電子傳輸層。
與無機(jī)材料不同,在沉淀有機(jī)薄膜層的過程中使用的有機(jī)材料不需要較高的蒸汽氣壓,但是在較高的溫度下容易分解與退化。由于這種材料的特性,通過將有機(jī)材料填充至由鎢、鈦、SUS等制成的容器并加熱該容器以蒸發(fā)有機(jī)材料,有機(jī)薄膜沉淀在基片上。
被蒸發(fā)以沉淀有機(jī)薄膜層的原材料被均勻地噴射到基片上。為此,將噴霧嘴聯(lián)接至容置蒸發(fā)的原材料的容器的外壁上,并且容器中的原材料穿過噴霧嘴并因而被蒸發(fā)在基片上。
圖1為示出了常規(guī)線性蒸發(fā)設(shè)備的示例的視圖。參照圖1,常規(guī)線性蒸發(fā)設(shè)備包括多個(gè)線性蒸發(fā)器11a、11b和11c,并且以分別從線性蒸發(fā)器11a、11b和11c蒸發(fā)的不同的原材料A、B和C在基片10上形成所需的薄膜。
例如,在不同的原材料A、B和C容置在連接至左側(cè)線性蒸發(fā)器11a、中間線性蒸發(fā)器11b以及右側(cè)線性蒸發(fā)器11c的室13中的狀態(tài)下,原材料A和B通過左側(cè)線性蒸發(fā)器11a和中間線性蒸發(fā)器11b來蒸發(fā)以形成一層薄膜;原材料A和C通過左側(cè)線性蒸發(fā)器11a和中間線性蒸發(fā)器11c來蒸發(fā)以形成另一層薄膜;并且原材料B和C通過左側(cè)線性蒸發(fā)器11b和中間線性蒸發(fā)器11c來蒸發(fā)以形成又一層薄膜。
因而,僅選自所述多個(gè)線性蒸發(fā)器11的某些線性蒸發(fā)器用于形成所需的薄膜。如圖1中所示,如果原材料A和B通過左側(cè)線性蒸發(fā)器11a和中間線性蒸發(fā)器11b來蒸發(fā),則未沉淀卻殘留在基片10中的原材料A和B可能落在未用來蒸發(fā)原材料C的右側(cè)線性蒸發(fā)器11c上并因而污染了右側(cè)線性蒸發(fā)器11c。
因此,落在右側(cè)線性蒸發(fā)器11c上的原材料可能與右側(cè)線性蒸發(fā)器周圍的原材料C反應(yīng),從而在不希望的位置形成薄膜。此外,從右側(cè)線性蒸發(fā)器11c蒸發(fā)的原材料C可能包含外來材料A和B,從而使形成在基片10上的薄膜的質(zhì)量惡化。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明被構(gòu)思為解決前述問題,并且本發(fā)明的一個(gè)方面提供了一種選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備,在該選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備中,線性蒸發(fā)器在原材料從線性蒸發(fā)器蒸發(fā)時(shí)向外側(cè)打開,而在原材料未從線性蒸發(fā)器蒸發(fā)時(shí)從外側(cè)關(guān)閉,因而防止了未用來蒸發(fā)原材料的線性蒸發(fā)器受到除相關(guān)原材料以外的其他外來材料的污染。
根據(jù)本發(fā)明的方面,提供了一種選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備,該設(shè)備包括多個(gè)線性蒸發(fā)器、角度限制板、遮擋構(gòu)件以及驅(qū)動(dòng)器,其中,所述多個(gè)線性蒸發(fā)器分別朝向基片蒸發(fā)不同的原材料,并且所述多個(gè)線性蒸發(fā)器沿著基片的傳輸方向間隔開;該角度限制板朝向線性蒸發(fā)器的上側(cè)以預(yù)定高度安裝在線性蒸發(fā)器的相對側(cè)處并且限制從線性蒸發(fā)器蒸發(fā)的原材料的擴(kuò)散角度;該遮擋構(gòu)件安裝在線性蒸發(fā)器的上方以及角度限制板之間,并且包括使線性蒸發(fā)器向外側(cè)打開的打開部以及使線性蒸發(fā)器從外側(cè)關(guān)閉的關(guān)閉部;該驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)遮擋構(gòu)件以在原材料從線性蒸發(fā)器蒸發(fā)時(shí)將打開部定位在線性蒸發(fā)器的上方,并在原材料未從線性蒸發(fā)器蒸發(fā)時(shí)將關(guān)閉部定位在線性蒸發(fā)器的上方。
該遮擋構(gòu)件的打開部與關(guān)閉部可以成排地連接并且沿著橫向于基片的傳輸方向的方向設(shè)置。
該驅(qū)動(dòng)器可以包括第一滑輪、第一馬達(dá)、第二滑輪以及第二馬達(dá),其中,該第一滑輪安裝在線性蒸發(fā)器的一側(cè)處并且打開部的一端纏繞在該第一滑輪上;該第一馬達(dá)使第一滑輪旋轉(zhuǎn);該第二滑輪安裝在線性蒸發(fā)器的另一側(cè)處并且關(guān)閉部的一端纏繞在該第二滑輪上;該第二馬達(dá)使第二滑輪旋轉(zhuǎn);以及打開部或關(guān)閉部可以通過第一馬達(dá)與第二馬達(dá)之間的一者的旋轉(zhuǎn)而選擇性地定位在線性蒸發(fā)器的上方。
關(guān)閉部可以通過將在橫向于基片的傳輸方向的方向上具有一定寬度的多個(gè)板進(jìn)行連接來形成。
附圖說明
通過結(jié)合附圖對示例性實(shí)施方式的以下描述,本發(fā)明的以上和/或其他方面將變得明顯并且更加容易理解,在附圖中:
圖1為示出了常規(guī)線性蒸發(fā)設(shè)備的示例的視圖;
圖2為示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備的視圖;
圖3為圖2的選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備的遮擋構(gòu)件的平面圖;
圖4為用于解解圖2的選擇性線性蒸發(fā)設(shè)備的遮擋構(gòu)件的操作的視圖;以及
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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