[發明專利]抗多碰的鎳基復合涂層及其涂覆方法無效
| 申請號： | 201310369791.0 | 申請日： | 2013-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN103522628A | 公開（公告）日： | 2014-01-22 |
| 發明（設計）人： | 荊瑞紅 | 申請（專利權）人： | 健雄職業技術學院 |
| 主分類號： | B32B15/01 | 分類號： | B32B15/01;C23C24/10 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 劉燕嬌 |
| 地址： | 215411 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 抗多碰 復合 涂層 及其 方法 | ||
1.一種抗多碰的鎳基復合涂層，其特征在于：所述鎳基復合涂層中Ni元素的重量分數沿靠近基體的一側向遠離基體的一側梯度增加。
2.如權利要求1所述的抗多碰的鎳基復合涂層，其特征在于：鎳基復合涂層中Ni元素的重量分數從10%梯度遞增至44.45%。
3.如權利要求1所述的抗多碰的鎳基復合涂層，其特征在于：所述鎳基復合涂層包括若干一體化的子涂層，各子涂層分別采用激光熔覆的方法形成。
4.如權利要求3所述的抗多碰的鎳基復合涂層，其特征在于：所述子涂層為4層，每層為1.2-1.7mm，從靠近基體方向到遠離基體方向依次為第一子涂層、第二子涂層、第三子涂層和第四子涂層，以重量分數計，所述第一子涂層的成分為C?0.05、B?0、Si?1.0、Cr?18、Ni?10，余量為Fe和其他微量元素；所述第二子涂層的成分為C?0.05、B?1.84、Si?1.84、Cr?21.1、Ni?23.69，Fe?51.33，余量為其他微量元素；所述第三子涂層的成分為C?0.05、B?0.5、Si?2.49、Cr?22.31、Ni?36.92，Fe?37.55，余量為其他微量元素；所述第四子涂層的成分為C?0.05、B?0、Si?2.50、Cr25.97、Ni?42.98，Fe?28.17，余量為其他微量元素。
5.一種抗多碰的鎳基復合涂層材料的涂覆方法，其特征在于，采用激光熔覆的方法在基體上熔覆第一子涂層，激光光斑尺寸為10mm×1mm，掃描速度為4.5-5.5mm/s，激光功率為3.5-4.5KW，以重量分數計，所述第一子涂層的成分為C?0.05、B?0、Si?1.0、Cr?18、Ni?10，余量為Fe和其他微量物質；
熔覆后，磨平頂面，熔覆第二子涂層，激光光斑尺寸為10mm×1mm，掃描速度為4.5-5.5mm/s，激光功率為3.5-4.5KW，以重量分數計，所述第二子涂層的成分為C?0.05、B?1.84、Si?1.84、Cr?21.1、Ni?23.69，Fe?51.33，余量為其他微量元素；
熔覆后，磨平頂面，熔覆第三子涂層，激光光斑尺寸為10mm×1mm，掃描速度為4.5-5.5mm/s，激光功率為3.5-4.5KW，以重量分數計，所述第三子涂層的成分為C?0.05、B?0.5、Si?2.49、Cr?22.31、Ni?36.92，Fe?37.55，余量為其他微量元素；
熔覆后，磨平頂面，熔覆第四子涂層，激光光斑尺寸為10mm×1mm，掃描速度為4.5-5.5mm/s，激光功率為3.5-4.5KW，以重量分數計，所述第四子涂層的成分為C?0.05、B?0、Si?2.50、Cr25.97、Ni?42.98，Fe?28.17，余量為其他微量元素。
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