[發明專利]用于晶體硅擴散的勻流板及其晶體硅擴散工藝爐

有效

• 申請號: 201310369412.8
• 申請日: 2013-08-22
• 公開（公告）號: CN103409803A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 程曦;匡成國;姜濤;楊東;姚騫;包崇彬
• 申請（專利權）人: 天威新能源控股有限公司
• 主分類號: C30B31/16
• 分類號: C30B31/16;C30B31/10
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 譚新民

1.用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：包括勻流板本體（1），勻流板本體（1）按照區域劃分為爐頂板區域和爐底板區域，爐頂板區域內開有若干勻流通孔（2），爐底板區域為密封板體。

2.根據權利要求1所述的用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：爐頂板區域和爐底板區域的面積相等。

3.根據權利要求1所述的用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：爐頂板區域和爐底板區域均為半圓形或矩形。

4.根據權利要求1所述的用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：爐頂板區域和爐底板區域以勻流板本體（1）的軸線對稱設置。

5.根據權利要求1-4中任意一項所述的用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：勻流通孔（2）的大小一致均勻的分布在爐頂板區域內。

6.根據權利要求1-4中任意一項所述的用于晶體硅擴散的勻流板，其特征在于：勻流通孔（2）的大小從爐頂板區域指向爐底板區域方向由大變小、且同一高度的勻流通孔（2）大小一致的均勻分布在爐頂板區域內。

7.晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：包括工藝爐爐體（3）和上述勻流板本體（1），勻流板本體（1）橫檔在工藝爐爐體（3）內，且勻流板本體（1）的邊緣與工藝爐爐體（3）內壁密封連接，且爐頂板區域位于工藝爐爐體（3）上部區域，爐底板區域位于工藝爐爐體（3）下部區域，工藝爐爐體（3）一端設置有進氣管（6），工藝爐爐體（3）內設置有硅片放置區域，勻流板本體（1）位于進氣管（6）與有硅片放置區域之間。

8.根據權利要求7所述的晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：進氣管（6）的軸線與勻流板本體（1）表面垂直。

9.根據權利要求7所述的晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：工藝爐爐體（3）內還設置有尾氣管（7），尾氣管（7）的進氣端位于硅片放置區域遠離勻流板本體（1）的一側，且尾氣管（7）沿著工藝爐爐體（3）底部內壁敷設。

10.根據權利要求9所述的晶體硅擴散工藝爐，其特征在于：尾氣管（7）的進氣端位于工藝爐爐體（3）內距離勻流通孔（2）最遠的點上。