[發(fā)明專利]一種三維超聲成像方法及系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310367753.1
• 申請(qǐng)日: 2013-08-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104414680B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄒耀賢;林穆清;陳志杰;熊奕;姚斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳邁瑞生物醫(yī)療電子股份有限公司
• 主分類號(hào): A61B8/00
• 分類號(hào): A61B8/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司44224
• 代理人: 何平

1.一種三維超聲成像方法，其特征在于，包括：

向胎兒頭部發(fā)射超聲波；

接收超聲回波，獲得超聲回波信號(hào)；

根據(jù)所述超聲回波信號(hào)獲得胎兒頭部的三維體數(shù)據(jù)；

根據(jù)胎兒頭部正中矢狀切面在胎兒頭部的三維體數(shù)據(jù)中的圖像特征，從所述三維體數(shù)據(jù)中檢測(cè)正中矢狀切面；

顯示所述正中矢狀切面。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：根據(jù)胎兒頭部正中矢狀切面的灰度特征，從所述三維體數(shù)據(jù)中檢測(cè)所述正中矢狀切面。

3.如權(quán)利要求1或者2所述的方法，其特征在于，其中從所述三維體數(shù)據(jù)中檢測(cè)正中矢狀切面的步驟包括：

在所述三維體數(shù)據(jù)中提取代表滿足平面內(nèi)的灰度值大于平面兩側(cè)的灰度值的條件的平面的矢狀面特征區(qū)域；

從所述矢狀面特征區(qū)域中選擇至少三個(gè)特征點(diǎn)；

根據(jù)所述至少三個(gè)特征點(diǎn)確定所述正中矢狀切面所在的平面。

4.如權(quán)利要求1或者2所述的方法，其特征在于，其中從所述三維體數(shù)據(jù)中檢測(cè)正中矢狀切面的步驟包括：

在所述三維體數(shù)據(jù)中提取至少兩個(gè)切面；

根據(jù)腦中線的灰度值大于腦中線兩側(cè)的灰度值的特征，在所述至少兩個(gè)切面中提取腦中線，獲得至少兩條腦中線；

根據(jù)所述至少兩條腦中線限定的平面確定所述正中矢狀切面所在的平面。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在所述至少兩個(gè)切面中提取腦中線的步驟包括：對(duì)于所述至少兩個(gè)切面中的每一個(gè)切面，執(zhí)行下列步驟：

在所述切面中提取代表滿足線上的灰度值大于線兩側(cè)的灰度值的線的腦中線特征區(qū)域；

從所述腦中線特征區(qū)域中選擇至少兩個(gè)特征點(diǎn)；

根據(jù)所述至少兩個(gè)特征點(diǎn)確定所述腦中線。

6.如權(quán)利要求1或者2所述的方法，其特征在于，其中從所述三維體數(shù)據(jù)中檢測(cè)正中矢狀切面的步驟包括：

在所述三維體數(shù)據(jù)中選擇一組備選切面；

計(jì)算所述一組備選切面中每個(gè)備選切面的對(duì)稱性指數(shù)，獲得一組對(duì)稱性指數(shù)；

從所述一組對(duì)稱性指數(shù)中選擇滿足特征條件的特征對(duì)稱性指數(shù)，并且以所述特征對(duì)稱性指數(shù)對(duì)應(yīng)的備選切面為所述正中矢狀切面。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，在所述三維體數(shù)據(jù)中選擇一組縱切面為所述一組備選切面。

8.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，其中計(jì)算所述一組備選切面中每個(gè)備選切面的對(duì)稱性指數(shù)的步驟包括：對(duì)于所述一組備選切面中的每個(gè)備選切面，執(zhí)行下列步驟：

在所述備選切面兩側(cè)選擇至少一對(duì)第一區(qū)域和第二區(qū)域，并且所述第一區(qū)域和第二區(qū)域關(guān)于所述備選切面對(duì)稱；

用所述第一區(qū)域中的數(shù)據(jù)和所述第二區(qū)域中的數(shù)據(jù)計(jì)算所述備選切面的對(duì)稱性指數(shù)。

9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述對(duì)稱性指數(shù)為：

所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域中關(guān)于所述備選切面對(duì)稱點(diǎn)灰度差的絕對(duì)值之和，并且所述特征條件為：對(duì)稱性指數(shù)最小；和/或

所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的相關(guān)系數(shù)，并且所述特征條件為：對(duì)稱性指數(shù)最大；和/或

所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的歐式距離，并且所述特征條件為：對(duì)稱性指數(shù)最小；和/或

所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域的余弦相似度，并且所述特征條件為：對(duì)稱性指數(shù)最大。

10.如權(quán)利要求1或者2所述的方法，其特征在于，其中在所述三維體數(shù)據(jù)中檢測(cè)正中矢狀切面的步驟包括：

獲取根據(jù)已有的胎兒正中矢狀切面的圖像生成的胎兒頭部正中矢狀切面的模板圖像；

在所述三維體數(shù)據(jù)中選擇一組備選切面；

計(jì)算所述一組備選切面中的每個(gè)備選切面與所述模板圖像的相似性指數(shù)，獲得一組相似性指數(shù)；

從所述一組相似性指數(shù)中選擇滿足特征條件的特征相似性指數(shù)，并且以所述特征相似性指數(shù)對(duì)應(yīng)的備選切面為所述正中矢狀切面。

11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，在所述三維體數(shù)據(jù)中選擇一組縱切面為所述一組備選切面。

12.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，在所述三維體數(shù)據(jù)中選擇一組備選切面之前還包括：將所述三維體數(shù)據(jù)和所述模板圖像對(duì)齊到同一尺度空間。