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[發(fā)明專利]一種利用3D打印復制碑刻拓片模板的方法無效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201310366830.1 申請日: 2013-08-22
公開(公告)號: CN103434136A 公開(公告)日: 2013-12-11
發(fā)明(設計)人: 陳碧帆;陳露霖 申請(專利權)人: 陳露霖
主分類號: B29C67/00 分類號: B29C67/00
代理公司: 南京知識律師事務所 32207 代理人: 汪旭東
地址: 212009 江蘇省*** 國省代碼: 江蘇;32
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 利用 打印 復制 碑刻 拓片 模板 方法
【說明書】:

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技術領域

????本發(fā)明涉及一種碑刻拓片,尤其涉及到一種利用3D打印復制碑刻拓片模板的方法。

背景技術

碑刻,泛指刻石文字或圖案,是歷史文化的重要載體之一,是不可再生的歷史文化資源。碑刻內(nèi)容涉及哲學、宗教、歷史、地理、經(jīng)濟、政治、軍事、文化、藝術、教育、科學、技術、民族等許多方面,具有傳承歷史文化的重要作用。碑刻大多以石灰?guī)r為主的自然山體為載體,在漫長的歲月中受到自然和人為因素的綜合作用,碑刻表面不斷被風化和殘蝕。目前國內(nèi)碑刻、碑帖大多保存分散,形成保管難堪、收藏難為、利用受限的情況,流失和破損程度相當嚴重,使得碑刻的文物價值、史料價值、現(xiàn)實價值得不到應有的利用和更好的發(fā)揚光大。

拓片是使用宣紙和墨汁,將碑刻上的文字或圖片,清晰地拷貝出來的一種方法。目前的拓片基本靠手工完成,有些摩崖石刻在山壁上,手工制作一般需要搭建支架,梯子等輔助設施,制作效率低,具有一定的危險性,無法搭支架的地方的石刻就無法拓制。拓片對碑刻的原始面貌和耐久性有相當不好的影響。且隨著歲月的流逝,很多碑刻表面被損壞的程度極其嚴重。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術中制作碑刻拓片存在的手工操作及手工操作帶來的危險性、碑刻流失和破損程度嚴重、碑刻表面損壞嚴重等技術問題,本發(fā)明提出了一種利用3D打印復制碑刻拓片模板的方法,該方法包括以下步驟:

???(1)獲取待處理碑刻拓片的圖片,并利用計算機將圖片處理為灰度圖片;

(2)利用軟件對灰度圖片進行編輯,獲取面狀的三維矢量信息數(shù)據(jù);

(3)利用三維CAD軟件對三維矢量信息數(shù)據(jù)進行處理,使之成為可以進行加工成型的三維模型數(shù)據(jù);

(4)由快速成型機按碑刻拓片與模型1?:1的比例對三維模型進行加工,成型出實物;

(5)對成型后的實物進行去支撐、修正、打磨、修邊、固定,最終形成碑刻拓片模板;

(6)利用最終形成的碑刻拓片模板制作拓片,與原始拓片進行對比,根據(jù)對比結果對拓片模板進行修正。

進一步地,上述步驟(1)中用相機獲取待處理拓片的圖片。

進一步地,上述步驟(4)中快速成型機的成型過程包括:

???(4.1)對步驟(3)中得到的三維模型沿某一方向分層切片,得到每一薄片的輪廓信息和實體信息;

???(4.2)在快速成型機內(nèi)設一光敏樹脂槽,在光敏樹脂槽內(nèi)設一加工臺面;

???(4.3)計算機控制快速成型機的紫外激光按碑刻拓片三維數(shù)據(jù)的分層截面信息在光敏樹脂表面進行逐點掃描,使被掃描區(qū)域的樹脂薄層產(chǎn)生光聚合反應而固化,形成碑刻拓片的一個薄層;

(4.4)將加工臺面下移步驟(4.3)中所述一個薄層的距離,計算機控制快速成型機的激光束光斑按三維模型的分層數(shù)據(jù)逐點掃描所述光敏樹脂槽內(nèi)待固化的光敏樹脂液面,所述光敏樹脂經(jīng)激光束光斑掃描后固化,在第一層層面上形成第二層層面,第二層層面和第一層層面牢固地粘結到一起;

(4.5)重復步驟(4.4),直至整個碑刻拓片模板制作完畢。

更近一步地,上述的一個薄層的距離在0.06mm-0.1mm之間。

本發(fā)明可以帶來以下有益效果:

(1)本發(fā)明利用先進的數(shù)字圖像處理技術和3D打印技術,實現(xiàn)了復制碑刻拓片模板制作,克服傳統(tǒng)拓片模板制作過程的工藝復雜、效率低和成本高的缺點,復制碑刻拓片模板后,對于快速進行大量石刻、碑帖的拓片化處理具有非常重要的意義。

(2)本發(fā)明能夠以很低的成本和方便的方式將散落在自然界中的各類石碑、石刻上進行復制,生成的數(shù)字化碑刻模板與利用3D打印技術生成的實物,便于保存和傳播,利用先進的技術能夠實物再現(xiàn)石刻文字。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的工作流程圖;

圖2為待處理的碑刻拓片;

圖3為獲取的三維矢量信息數(shù)據(jù);

圖4為最終形成的碑刻拓片模板;

圖5為利用碑刻拓片模板制作的拓片。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行進一步說明。

如圖1所示為本發(fā)明的工作流程圖,本發(fā)明利用3D打印技術進行復制碑刻拓片模板,包括以下步驟:

???(1)獲取待處理碑刻拓片的圖片,并利用計算機將圖片處理為灰度圖片;

(2)利用軟件對灰度圖片進行編輯,獲取面狀的三維矢量信息數(shù)據(jù);

(3)利用三維CAD軟件對三維矢量信息數(shù)據(jù)進行處理,使之成為可以進行加工成型的三維模型數(shù)據(jù);

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2、支持發(fā)明專利 、實用新型專利、外觀設計專利(升級中);

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