[發明專利]一種硅烷偶聯劑與金屬鎳離子共沉積的方法

無效

• 申請號: 201310364728.8
• 申請日: 2013-08-19
• 公開（公告）號: CN103436926A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 周琦;趙珍花
• 申請（專利權）人: 沈陽理工大學
• 主分類號: C25D3/12
• 分類號: C25D3/12;C25D13/06
• 代理公司: 沈陽利泰專利商標代理有限公司 21209
• 代理人: 李樞

1.一種硅烷偶聯劑與金屬鎳離子共沉積的方法，其特征在于包括下列步驟：

第一步、前處理；

第二步、硅烷偶聯劑和金屬鎳離子的電鍍-電泳共沉積；

在鍍鎳液中加入硅烷偶聯劑，制得硅烷偶聯劑和金屬鎳離子共沉積的鍍鎳液，使得硅烷偶聯劑在制得的硅烷偶聯劑和金屬鎳離子共沉積的鍍鎳液中濃度為0.01～40ml/L，硅烷偶聯劑和金屬鎳離子共沉積的鍍鎳液pH值為3.5～5.5；

將經過前處理的工件放入硅烷偶聯劑和金屬鎳離子共沉積的鍍鎳液中，電鍍-電泳共沉積選用直流電源，陰極電流密度為1～6A/dm²，電鍍-電泳共沉積時金屬鎳離子和硅烷偶聯劑共沉積的鍍鎳液溫度為45～60℃，電鍍-電泳共沉積時間為5～60min；

在工件表面產生硅烷偶聯劑和金屬鎳的共沉積復合膜；

第三步、將上述經過共沉積后的工件用流動自來水沖洗，烘干。

2.根據權利要求1所述的一種硅烷偶聯劑與金屬鎳離子共沉積的方法，其特征在于下列步驟：在所述的第二步中的硅烷偶聯劑為：γ-氯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三（2-甲氧基乙氧基)硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-縮水甘油醚基氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷又名3-[(2,3)-環氧丙氧]丙基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、β-（3、4環氧環己烷）乙基二甲氧基硅烷、γ-巰丙基二甲氧基硅烷、雙-（γ-三乙氧基硅基丙基）四硫化物、雙-（2-（三乙氧基硅烷）丙基）-四硫化物、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、N-β-（氨乙基）-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-脲基丙基三乙氧基硅烷、苯胺甲基三乙氧基硅烷、苯胺甲基二甲氧基硅烷、N-(6-氨基己基)氨基甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、2-（3，4-環氧環己基）乙基三乙氧基硅烷、KH-460硅烷偶聯劑、KH-450硅烷偶聯劑、KH-470硅烷偶聯劑或長效氨基硅烷偶聯劑。

3.根據權利要求1所述的一種硅烷偶聯劑與金屬鎳離子共沉積的方法，其特征在于下列步驟：所述的第二步中硅烷偶聯劑和金屬鎳離子共沉積的鍍鎳液可以為暗鎳鍍鎳液、半光亮鎳鍍鎳液、瓦特鎳鍍鎳液、閃鍍鎳鍍鎳液、高硫鎳鍍鎳液、鎳封鍍鎳液、高應力鎳鍍鎳液、打底鎳鍍鎳液或黑鎳鍍鎳液；

鍍鎳主鹽為硫酸鎳、氯化鎳、醋酸鎳或氨基磺酸鎳。

4.根據權利要求3所述的一種硅烷偶聯劑與金屬鎳離子共沉積的方法，其特征在于：所述的瓦特鎳鍍鎳液與硅烷偶聯劑共沉積的鍍鎳液配方為：

5.根據權利要求1所述的一種硅烷偶聯劑與金屬鎳離子共沉積的方法，其特征在于下列步驟：所述第一步中的前處理：打磨工件表面，流動自來水洗，化學除油，50-70℃熱水洗，流動自來水洗，酸洗，流動自來水洗；

化學除油，除油液的組成為：

當工件基體的表面呈現連續的水膜即表示工件表面油已除盡；酸洗采用5～20%的工業鹽酸，工業鹽酸中加有酸霧抑制劑，使酸霧抑制劑在工業鹽酸和酸霧抑制劑的混合液中的濃度為1～25ml/L，所述的百分數均為質量百分數。