[發明專利]具有等離子膜的裝飾品及其制造方法在審
| 申請號: | 201310362163.X | 申請日: | 2013-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN103707706A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發明(設計)人: | 荻須元思;井土尚泰 | 申請(專利權)人: | 豐田合成株式會社 |
| 主分類號: | B44C5/04 | 分類號: | B44C5/04;B82B1/00;B82Y30/00;C03C17/30 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;張天舒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 等離子 裝飾品 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種具有等離子膜的裝飾品,該等離子膜產生等離子體共振現象而顯色。
背景技術
近年來,利用透明基材而形成的透明前格柵增加,本申請人也為了應對該需求,正在開發研究在透明基材的背面進行光亮裝飾的技術。在透明基材的背面進行光亮裝飾(金屬色)的情況下,通常通過干式成膜進行裝飾,但特別是考慮到光亮裝飾的彩色化時,利用干式法附加干涉膜等彩色濾光片是最有效的。但是,干涉膜的彩色濾光片存在根據視角的不同而顏色改變的問題。因此,本發明者不使用干涉膜的彩色濾光片,而使用產生等離子體共振現象而顯色的等離子膜的彩色濾光片。
已知等離子體共振現象是在電介質和金屬的界面處引起的現象,通常通過將特定的金屬納米進行粒子化而產生。即,該納米粒子化后的金屬與特定波長的可見光發生共振并僅吸收該特定波長的可見光,其結果,從白色光中僅去除該特定波長的可見光后顯色。并且,該發生共振的特定波長由金屬納米粒子的材料(元素)、形狀、大小、密度確定,根據上述因素使得所顯現的顏色發生各種變化。例如,如果材料(元素)、形狀、密度相同,則金屬納米粒子的大小越小與頻率越高的光發生共振并僅吸收該光,其結果,顯色為黃色等,金屬納米粒子的大小越大,與頻率越低的光發生共振并僅吸收該光,其結果,顯色為藍色等。
并且,在產生上述等離子體共振現象的等離子膜的制造中,當前通常如專利文獻1、2所示,通過將包含金屬納米粒子和電介質(透明粘合劑)的涂布液(溶劑)涂敷在透明基材上的濕式方法,將金屬納米粒子以電介質膜的形式進行涂層而形成等離子膜。
專利文獻1:日本特開2000-103644號公報
專利文獻2:日本特開2008-203377號公報
但是,如果通過上述濕式方法制造等離子膜,則會產生多余的涂布液,存在環境負擔高等問題。因此,本發明者研究通過濺射將金屬納米粒子蒸鍍在電介質層的表面上,在通過濺射進行蒸鍍的情況下,無法保持金屬納米粒子的粒形而粒形變平坦,或與相鄰的粒子連接在一起,其結果,等離子體共振現象的產生減少,顯色變差。因此,無法制作出顧客所希望的彩色光亮膜。并且,與需要較小的金屬納米粒子的黃色等的等離子膜相比,在需要較大的金屬納米粒子的藍色等的等離子膜中,上述顯色的惡化表現得更為明顯。
發明內容
因此,本發明的目的在于,使得易于保持金屬納米粒子的粒形,易于產生等離子體共振現象。
為了實現上述目的,具有本發明的等離子膜的裝飾品構成為,包含撥水層和層疊在撥水層上而作為等離子膜的金屬納米粒子層。
具有等離子膜的裝飾品的具體形式并沒有特別的限定,但優選具有基材,該基材具有透光性,撥水層是設置在基材的背面且具有透光性的層,金屬納米粒子層層疊在撥水層的背面。另外,優選在金屬納米粒子層的背面設置有具有透光性的透光層,在透光層的背面設置有使光反射的反射層。
如果基材具有透光性,則其他發明并沒有特別的限定,但優選基材為透明。另外,在基材透明情況下,優選進行鏡面加工。基材的材質并沒有特別的限定,但例示玻璃、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。
撥水層的材料并沒有特別的限定,但優選電介質材料。具體來說,例示SiO2、TiO2、Al2O3、SiO聚合物(SiOX)等。其中,優選SiO聚合物(即,撥水層是由SiO聚合物構成的層)。另外,該SiO聚合物優選具有甲基。其原因在于,甲基朝向金屬納米粒子層側,因此撥水性提高,金屬納米粒子更易于保持粒形。另外,撥水層的水接觸角沒有特別的限定,但優選大于或等于80°,更優選大于或等于90°。另外,設置撥水層的方法沒有特別的限定,但優選干式成膜。具體來說,例示真空蒸鍍、等離子聚合、濺射等。其中,優選等離子聚合(即,撥水層通過等離子聚合進行設置)。
構成金屬納米粒子層的金屬納米粒子沒有特別的限定,但優選高導電性的金屬。具體來說,例示Au、Ag、Cu、Al、Ni等,其中,優選Ag(即,金屬納米粒子層是由銀納米粒子構成的層)。另外,金屬納米粒子的大小沒有特別的限定,但優選粒徑為1至100nm。更具體地說,在金屬納米粒子為銀納米粒子的情況下,優選粒徑為3至20nm。另外,設置金屬納米粒子層的方法沒有特別的限定,但優選干式成膜。具體來說,例示真空蒸鍍、濺射等。其中,優選濺射(即,金屬納米粒子通過濺射而蒸鍍在撥水層上)。
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