[發明專利]加工設備無效
| 申請號: | 201310361914.6 | 申請日: | 2013-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN103433505A | 公開(公告)日: | 2013-12-11 |
| 發明(設計)人: | 葉佩青;張輝;郭紹林;梁文勇;黃玉明 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | B23B5/00 | 分類號: | B23B5/00;B23Q1/64;B23B25/06 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 賈玉姣;黃德海 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加工 設備 | ||
技術領域
本發明涉及機械加工設備領域,尤其是涉及一種適于加工菲涅爾玻璃透鏡的加工設備。
背景技術
現有的菲涅爾玻璃透鏡模具的加工方法,不僅車刀與工件之間可能發生干涉,導致車刀失效,而且刀尖點的實時位置得不到補償,往往導致最終的加工精度達不到理想的效果。
發明內容
本發明旨在至少在一定程度上解決現有技術中的上述技術問題之一。為此,本發明的一個目的在于提出一種可避免發生車刀與菲涅爾玻璃透鏡干涉問題的加工設備。
根據本發明實施例的加工設備,適于加工菲涅爾玻璃透鏡,所述加工設備包括:車刀,所述車刀可沿水平方向和豎直方向移動;用于驅動所述車刀沿豎直方向移動的第一驅動部件;用于驅動所述車刀沿豎直方向移動的第二驅動部件,所述第二驅動部件驅動所述車刀豎直移動的行程小于所述第一驅動部件驅動所述車刀豎直移動的行程;工作臺,所述工作臺具有工作面,其中待加工的菲涅爾玻璃透鏡適于固定在所述工作面上,其中所述工作臺繞所述工作臺的中心軸線可轉動且所述工作臺可沿一段圓弧軌跡運動,所述圓弧軌跡對應的圓心在所述工作臺的中心軸線上且與所述工作面間隔預定距離。
根據本發明實施例的加工設備,通過使得工作臺在水平方向和豎直方向移動,且通過第二驅動部件負責加工過程中所需的微小進給,同時由于工作臺可繞工作臺的中心軸線轉動,且工作臺可沿一段圓弧軌跡運動,從而可避免發生車刀與菲涅爾玻璃透鏡干涉的問題,避免損壞車刀,延長車刀的使用壽命。
另外,根據本發明的加工設備還具有如下附加技術特征:
可選地,所述第一驅動部件為直線電機。
可選地,所述第二驅動部件為壓電陶瓷驅動器。
在本發明的一些實施例中,加工設備還包括位置傳感器,所述位置傳感器用于檢測所述工作臺在所述預定軌跡上的具體位置。從而實現對車刀位置的實時補償,提高加工精度,保證產品的合格率。
具體地,所述車刀具有刀尖,所述刀尖位置的補償由所述第二驅動部件控制。
具體地,所述第二驅動部件根據所述位置傳感器檢測出的所述工作臺的當前位置以補償所述刀尖的位置。
附圖說明
圖1為根據本發明實施例的加工設備的示意圖。
附圖標記:
加工設備100、菲涅爾玻璃透鏡200、車刀1、刀尖10、
第二驅動部件2、工作臺3、工作面30、位置傳感器4、
控制系統5、數控機床6
具體實施方式
下面詳細描述本發明的實施例,所述實施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的,旨在用于解釋本發明,而不能理解為對本發明的限制。
在本發明的描述中,需要理解的是,術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”、“順時針”、“逆時針”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本發明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本發明的限制。
此外,術語“第一”、“第二”僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發明的描述中,“多個”的含義是兩個或兩個以上,除非另有明確具體的限定。
在本發明中,除非另有明確的規定和限定,術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術語應做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或成一體;可以是機械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關系。對于本領域的普通技術人員而言,可以根據具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
在本發明中,除非另有明確的規定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸,也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過它們之間的另外的特征接觸。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。
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