[發(fā)明專利]一種玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310360442.2 | 申請日： | 2013-08-16 |
| 公開（公告）號： | CN103448324A | 公開（公告）日： | 2013-12-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃穎;崔平生;梁瑞記 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞南玻工程玻璃有限公司;中國南玻集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B17/06 | 分類號： | B32B17/06;C03C17/36 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人： | 張艷美;郝傳鑫 |
| 地址： | 523141 廣東省東莞市麻涌鎮(zhèn)新*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 玫瑰 紅色 輻射 鍍膜 玻璃 及其 制備 方法 | ||
1.一種玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片以及鍍在所述玻璃基片表面的鍍膜層；其特征在于：所述鍍膜層自所述玻璃基片一側(cè)向外依次包括第一介質(zhì)層、銅層或銅氮復(fù)合層、第一保護(hù)層和第二介質(zhì)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述銅層或銅氮復(fù)合層的厚度為3-50nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述鍍膜層還包括設(shè)置于所述第一介質(zhì)層和所述銅層或銅氮復(fù)合層之間的第二保護(hù)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一保護(hù)層和所述第二保護(hù)層的每層厚度為0.1～20nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層為金屬氧化層、金屬氮化層或硅的氮化層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一介質(zhì)層、所述第二介質(zhì)層為金屬氧化層、金屬氮化層或硅的氮化層中的兩層或多層。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述金屬氧化層為SnOx層、ZnOX層和TiOx層的一種或多種復(fù)合膜層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述ZnOX為氧化鋅、過氧化鋅中的一種或兩種混合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一介質(zhì)層和所述第二介質(zhì)層的每層厚度為3～150nm。
10.如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的玫瑰紅色低輻射鍍膜玻璃的制備方法，包括在所述玻璃基片表面鍍膜，其特征在于：所述鍍膜層采用磁控濺射方法鍍覆而成，將所述玻璃基片放入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自玻璃基片一側(cè)向外逐層鍍膜，所述銅層在惰性氣體的氣氛下鍍制，所述銅氮復(fù)合層在氮?dú)夂投栊詺怏w的混合氣體的氣氛下鍍制。
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