[發明專利]一種多波段增強型金屬反射膜及其制備方法

有效

• 申請號: 201310356815.9
• 申請日: 2013-08-16
• 公開（公告）號: CN103412350A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 姚細林;熊長新;楊放;王陽陽;李東亮
• 申請（專利權）人: 中國船舶重工集團公司第七一七研究所
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;B32B7/12;B32B15/20;B32B15/04;C23C14/02;C23C14/58
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 王丹

1.一種多波段增強型金屬反射膜，包括基片，其特征在于，所述基片上依次為鉻膜層、過渡粘接層、金屬層、無吸收過渡層和增強介質膜；所述過渡粘接層為純度大于99.9%的純銅或銅和鎳的混合材料蒸發而成，并采用電子束輔助沉積。

2.根據權利要求1所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述過渡粘接層為銅和鎳的混合材料時，銅和鎳的原子百分比為50比50至90比10。

3.根據權利要求1或2所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述過渡粘接層的厚度為20-100納米。

4.根據權利要求1所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述鉻膜層由鉻熱蒸發而成，采用離子束輔助沉積，其厚度為20-60納米。

5.根據權利要求1所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述金屬層為純度大于99.9%的純銀或純金采用電子束蒸發而成，其厚度為100-200納米。

6.根據權利要求1所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述無吸收過渡層為Al₂O₃或Y₂O₃材料采用電子束蒸發而成，并采用電子束輔助沉積；其膜層厚度為20-35納米。

7.根據權利要求1所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述增強型介質膜是由高、低折射率材料采用電子束蒸發交替鍍制形成，所述高折射率材料為TiO₂或Ta₂O₅或HfO₂，低折射率材料為Al₂O₃或SiO₂。

8.根據權利要求1所述的多波段增強型金屬反射膜，其特征在于，所述基片是玻璃、或者碳化硅、或者銅或者硅晶體材料。

9.一種多波段增強型金屬反射膜的制備方法，其特征在于，包括以下

步驟：

1）基片的清洗步驟：首先用專用拋光液粗略擦拭一遍，再用無水混合有機溶液清洗，然后用哈氣法檢查；

2）離子束刻蝕清洗步驟：當本底真空達到???????????????????????????????????????????????及以下，同時對基片加熱，當基片充分地熱透時，開啟離子源對基片表進行離子束清洗，刻蝕物理厚度30~100nm；

3）在基片上蒸鍍鉻膜層；

4）在鉻膜層上蒸鍍過渡粘接層；

5）關離子源及工作氣體，當真空度達到及以下時，在過渡粘接層上蒸鍍金屬膜層；

6）開啟離子源，在金屬膜層上蒸鍍無吸收過渡層；

7）切換工作氣體為氧氣，在無吸收過渡層上分別交替蒸鍍低折射率和高折射率材料，從而形成增強型介質膜；

8）關離子源并進行真空條件下原位退火，溫度升到240℃~300℃，保溫時間不少于4小時。

10.?根據權利要求9所述的多波段增強型金屬反射膜的制備方法，其特征在于，步驟2）中對基片加熱并熱透，其加熱溫度為130℃~180℃。