[發(fā)明專利]含硅有機化合物在延長化學(xué)機械拋光液中研磨顆粒穩(wěn)定性中的應(yīng)用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310354653.5
• 申請日: 2013-08-14
• 公開（公告）號: CN104371552B
• 公開（公告）日: 2017-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高嫄;王晨;何華鋒;周文婷
• 申請（專利權(quán)）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 北京大成律師事務(wù)所11352
• 代理人: 李佳銘

1.一種穩(wěn)定的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述拋光液由二氧化硅研磨顆粒、含硅的有機化合物、含有大于或等于0.1mol/kg的離子強度的電解質(zhì)離子及水組成；

所述含硅的有機化合物為自由分散在水相中，或已經(jīng)和研磨顆粒之間通過化學(xué)鍵相連；

所述含硅的有機化合物的濃度為質(zhì)量百分比0.01％～1％；

所述含硅的有機化合物具有如下分子結(jié)構(gòu)：

其中，R為不能水解的取代基；D是連接在R上的有機官能團；A，B為相同的或不同的可水解的取代基或羥基；C是可水解基團或羥基，或不可水解的烷基取代基；D為氨基、巰基、環(huán)氧基、丙烯酸基、乙烯基、丙烯酰氧基或脲基。

2.如權(quán)利要求1所述化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述含硅的有機化合物中R為烷基，且所述烷基碳鏈上的碳原子被氧、氮、硫、膦、硅中的一種或多種原子繼續(xù)取代；A，B和C分別為氯基、甲氧基、乙氧基、甲氧基乙氧基、乙酰氧基或羥基。

3.如權(quán)利要求1所述化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述含硅的有機化合物為硅烷偶聯(lián)劑。

4.如權(quán)利要求3所述化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述含硅的有機化合物為3-氨基丙基三乙氧基硅烷，γ-(2,3-環(huán)氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷，γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷，γ-巰丙基三乙氧基硅烷，γ-巰丙基三甲氧基硅烷，N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷，γ-氨乙基氨丙基三甲氧基硅烷中的一種或多種。

5.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述含硅的有機化合物的濃度為質(zhì)量百分比0.05％～0.5％。

6.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅研磨顆粒的濃度為質(zhì)量百分比1％～50％。

7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅研磨顆粒質(zhì)量百分比16％～50％。

8.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述大于或等于0.1mol/kg的離子強度的電解質(zhì)離子是金屬離子和/或非金屬離子。

9.如權(quán)利要求8所述的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述的電解質(zhì)離子是鉀離子。

10.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械拋光液，其特征在于，所述化學(xué)機械拋光液的pH值為2至12。