[發明專利]相位差膜的制造方法

在審

• 申請號: 201310354524.6
• 申請日: 2013-08-14
• 公開（公告）號: CN104375229A
• 公開（公告）日: 2015-02-25
• 發明（設計）人: 洪維澤;邱大任;吳昱寯
• 申請（專利權）人: 遠東新世紀股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B27/26
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

技術領域

本發明是關于一種薄膜的制造方法，且特別是有關于一種3D相位差膜的制造方法。

背景技術

近年來由于顯示技術的蓬勃發展，對于立體(3D)影像顯示技術的需求成為目前相當熱門的課題之一，所謂立體影像顯示技術，是根據人眼的視覺特性，當左眼與右眼分別觀看相同的影像內容但具有不同相位差的二影像時，人眼會觀察到立體影像。從而3D相位差膜的制造即成為當今顯示工業技術開發的重點之一。

在制作3D相位差膜的方法上，目前已知技術已揭示像是“多次磨擦配向法”、“液晶ISO相制作法”以及“機械加工法”等不同方式。所謂“多次磨擦配向法”是利用在配向膜上所形成的掩膜，以光刻蝕刻方式將掩膜圖案化后，將未覆蓋掩膜的部分區域配向膜磨擦配向，之后去除掩膜，再次以另一掩膜搭配光刻蝕刻方式，將前一掩膜所覆蓋，尚未配向的另一部分區域配向膜磨擦配向，藉以形成兩種不同的配向角的配向膜區域，而兩種不同的配向角可使穿透光具有波程差，即完成3D相位差膜的制作。然而“多次磨擦配向法”的制程繁復，在量產上仍有疑慮；美國專利US5926241提出“液晶ISO相制作法”，則是先于基板涂布液晶層，將液晶層加熱至無相位差的ISO相，利用紫外光搭配光掩模使部分區域的液晶層固化，再降溫使先前未固化的另一部分液晶層排列，再次以紫外光搭配光掩模使該區域的液晶層固化，形成兩種不同相位差的液晶相，即可使穿透光具有波程差，完成3D相位差膜的制作。然而“液晶ISO相制作法”因為液晶層的兩區域是分別在兩種溫度下固化，在兩者交界處容易產生液晶分子排列紊亂而漏光，所以具有顯示品質下降的問題；日本專利JP2001-100150提出的“機械加工法”則提出將現有的液晶相位差膜貼附于硬質基板上，利用刀具切割刮除部分區域，使未刮除與已刮除兩區域之間具有相位差值，以達到3D相位差膜的效果，然此方式卻有刀具在反復操作下容易變形，從而造成良率下降的問題，亦不利于量產。綜上所述，一種簡便、利于量產且具有良好顯示品質的3D相位差膜的制造方法，仍是當今顯示工業技術亟需開發的重點方向。

發明內容

本發明提供一種3D相位差膜的制造方法，其步驟簡便而有利于量產，同時亦能避免前述漏光疑慮，具有良好的顯示品質。

本發明的一個方面是提出一種相位差膜的制造方法，包含提供微結構基材，微結構基材具有多條凸出部分以及多條凹入部分彼此交錯排列；形成光配向層于微結構基材上；以及以偏極紫外光由微結構基材上方照射光配向層，其中，偏極紫外光與微結構基材的正向夾有擴散角度實質上介于20°～60°，以均勻照射光配向層并使光配向層均勻地形成配向角。

在本發明的一實施方式中，上述偏極紫外光是以紫外線面光源搭配凹透鏡或擴散板散射形成。

在本發明的一實施方式中，上述形成光配向層的方式是將光配向樹脂以旋轉涂布、線棒涂布、浸沾式涂布、狹縫式涂布或卷對卷涂布方式，涂布于規則性微結構上。

在本發明的一實施方式中，上述光配向樹脂為光致交聯型(photo-induced?cross-linking)樹脂、光致異構型(Photo-Isomerization)樹脂、光致裂解型(Photo-Decomposition)樹脂、或上述樹脂的混合樹脂。

在本發明的一實施方式中，上述光致交聯型樹脂包含肉桂酸酯基(cinnamate)、香豆素酯基(coumarin)、苯基苯乙烯酮基(chalcone)、馬來酰亞胺基(maleimide)、喹啉酮基(quinoline)、雙苯亞甲基(bis(benzylidene))、或上述這些不飽和雙鍵基團的組合。

在本發明的一實施方式中，上述以偏極紫外光由微結構基材上方照射光配向層的步驟中，照射劑量是5～180mJ/cm²。

在本發明的一實施方式中，上述凸出部分與凹入部分的高度差是1～3微米。

在本發明的一實施方式中，上述凸出部分的寬度與上述高度差的比值是60～600。

在本發明的一實施方式中，進一步包含形成液晶層于光配向層上。