[發(fā)明專利]離子注入裝置和離子注入裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310353859.6
• 申請日: 2013-08-14
• 公開（公告）號: CN103928280A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 松本武
• 申請（專利權(quán)）人: 日新離子機(jī)器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/30
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 周善來;李雪春

1.一種離子注入裝置，在進(jìn)行離子注入處理時，向離子源內(nèi)部導(dǎo)入工藝氣體，使用由多塊電極構(gòu)成的引出電極系統(tǒng)，從所述離子源引出帶狀的離子束，向配置在處理室內(nèi)的基板照射所述離子束，并且在離子注入處理以外時，向離子源內(nèi)部導(dǎo)入清洗氣體，對所述離子源內(nèi)部進(jìn)行清洗，其特征在于，

包括控制裝置，在清洗結(jié)束后重新啟動所述離子束時，在所述引出電極系統(tǒng)上施加規(guī)定電壓后，將所述離子源的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)設(shè)定為與作為處理對象的基板的注入配方對應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子注入裝置，其特征在于，將對多塊基板進(jìn)行的離子注入處理，分多次、且每次對規(guī)定塊數(shù)進(jìn)行，所述控制裝置在整個離子注入處理結(jié)束之前的期間，至少對所述離子源內(nèi)部進(jìn)行一次清洗。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的離子注入裝置，其特征在于，在重新啟動所述離子束時，在所述引出電極系統(tǒng)上施加規(guī)定電壓時，在所述離子源內(nèi)部沒有生成等離子體。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的離子注入裝置，其特征在于，

所述離子源包括等離子體生成容器，所述等離子體生成容器導(dǎo)入所述清洗氣體或所述工藝氣體，在內(nèi)部生成等離子體，

在所述等離子體生成容器內(nèi)配置有一個或多個陰極，

在所述陰極和所述等離子體生成容器之間，連接有調(diào)整兩個構(gòu)件之間的電位差的電源。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子注入裝置，其特征在于，所述控制裝置在重新啟動所述離子束時，在使連接在所述引出電極系統(tǒng)上的電源的輸出電壓為規(guī)定的值后，使連接在所述陰極和所述等離子體生成容器之間的電源的輸出電壓為規(guī)定的值。

6.一種離子注入裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，

所述離子注入裝置，在進(jìn)行離子注入處理時，向離子源內(nèi)部導(dǎo)入工藝氣體，使用由多塊電極構(gòu)成的引出電極系統(tǒng)，從所述離子源引出帶狀的離子束，向配置在處理室內(nèi)的基板照射所述離子束，并且在離子注入處理以外時，向離子源內(nèi)部導(dǎo)入清洗氣體，對所述離子源內(nèi)部進(jìn)行清洗，所述離子注入裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法的特征在于，

在清洗結(jié)束后重新啟動所述離子束時，在所述引出電極系統(tǒng)上施加規(guī)定電壓后，將所述離子源的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)設(shè)定為與作為處理對象的基板的注入配方對應(yīng)的運(yùn)轉(zhuǎn)參數(shù)。