[發(fā)明專利]化工生產(chǎn)的離散控制方法及裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310347383.5 | 申請日: | 2013-08-09 | 
| 公開(公告)號: | CN103605323A | 公開(公告)日: | 2014-02-26 | 
| 發(fā)明(設計)人: | 蘇岳龍;張慶新;梁桂花;李官勝;周建;張廣義;賈曉明 | 申請(專利權(quán))人: | 中國藍星(集團)股份有限公司 | 
| 主分類號: | G05B19/418 | 分類號: | G05B19/418 | 
| 代理公司: | 北京彭麗芳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11407 | 代理人: | 汪永生 | 
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化工 生產(chǎn) 離散 控制 方法 裝置 | ||
1.一種化工生產(chǎn)的離散控制方法,其特征在于,包括:
建立待生產(chǎn)的化工產(chǎn)品的工藝指標與影響該工藝指標的多個工藝參數(shù)之間的線性回歸模型;每個所述工藝參數(shù)均對應地具有一個回歸系數(shù),所述工藝參數(shù)包括至少一個第一參數(shù)和至少一個第二參數(shù),所述第一參數(shù)為實時數(shù)據(jù),所述第二參數(shù)為具有時間滯后性的歷史數(shù)據(jù);
獲取多個所述回歸系數(shù);
利用獲取的所述回歸系數(shù)、所述第一參數(shù)的實時值、所述第二參數(shù)對應的歷史值、及所述線性回歸模型,在線得到當前時刻的工藝指標估計值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離散控制方法,其特征在于,所述離散控制方法還包括:將所述當前時刻得到的化工產(chǎn)品進行化驗后得到該所述當前時刻的化工產(chǎn)品的工藝指標實測值,根據(jù)所述工藝指標估計值與所述工藝指標實測值之間的偏差對所述回歸系數(shù)進行校正。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離散控制方法,其特征在于,所述離散控制方法還包括:利用生產(chǎn)平穩(wěn)運行情況下預定時間段內(nèi)生產(chǎn)的化工產(chǎn)品的多個工藝指標實測值得到工藝指標平均值,根據(jù)所述工藝指標估計值與所述工藝指標平均值之間的偏差對所述回歸系數(shù)進行校正。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的離散控制方法,其特征在于,所述離散控制方法還包括:判斷所述工藝指標估計值是否符合預定的變化范圍,如果不符合則發(fā)出報警。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的離散控制方法,其特征在于,所述離散控制方法還包括:為每個所述第二參數(shù)設置滯后時間,以獲取該第二參數(shù)的歷史數(shù)據(jù)。
6.一種化工生產(chǎn)的離散控制裝置,其特征在于,包括:
模型存儲單元,用于存儲待生產(chǎn)的化工產(chǎn)品的工藝指標與影響該工藝指標的多個工藝參數(shù)之間的線性回歸模型;每個所述工藝參數(shù)均對應地具有一個回歸系數(shù),所述工藝參數(shù)包括至少一個第一參數(shù)和至少一個第二參數(shù),所述第一參數(shù)為實時數(shù)據(jù),所述第二參數(shù)為具有時間滯后性的歷史數(shù)據(jù);
回歸系數(shù)獲取單元,用于獲取多個所述回歸系數(shù);
計算單元,用于利用獲取的所述回歸系數(shù)、所述第一參數(shù)的實時值、所述第二參數(shù)對應的歷史值、及所述線性回歸模型,在線得到當前時刻的工藝指標估計值。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離散控制裝置,其特征在于,所述離散控制裝置還包括:
校正單元,用于根據(jù)所述工藝指標估計值與工藝指標實測值之間的偏差對所述回歸系數(shù)進行校正,其中,所述工藝指標實測值是將所述當前時刻得到的化工產(chǎn)品進行化驗后得到的。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離散控制裝置,其特征在于,所述離散控制裝置還包括:
校正單元,用于根據(jù)所述工藝指標估計值與工藝指標平均值之間的偏差對所述回歸系數(shù)進行校正,其中,所述工藝指標平均值是在生產(chǎn)平穩(wěn)運行的情況下、預定時間段內(nèi)生產(chǎn)的化工產(chǎn)品的多個工藝指標實測值的平均值。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的離散控制裝置,其特征在于,所述離散控制裝置還包括:判斷單元,用于判斷所述工藝指標估計值是否符合預定的變化范圍,并在不符合的情況下發(fā)出報警信息。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的離散控制裝置,其特征在于,所述離散控制裝置還包括:滯后時間設置單元,用于為每個所述第二參數(shù)設置滯后時間,以獲取該第二參數(shù)的歷史數(shù)據(jù)。
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