[發明專利]投影方法及設備

有效

• 申請號: 201310347216.0
• 申請日: 2013-08-09
• 公開（公告）號: CN104349094B
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: 張曉平;曹璐;武亞強;王哲鵬
• 申請（專利權）人: 聯想（北京）有限公司
• 主分類號: H04N5/74
• 分類號: H04N5/74;H04N9/31
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 鞠永善

1.一種投影方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取第一圖像，并獲取調整指令，其中，所述第一圖像對應第一內容；

根據所述調整指令將所述第一圖像調整為第二圖像，所述第二圖像包括目標圖像，所述目標圖像對應所述第一內容；

將所述第二圖像進行投影；

其中，當所述第二圖像由至少兩個平面形成的相交平面成像時，如果投影后的所述目標圖像的邊緣與所述相交平面的交線相交，則投影后的所述目標圖像的邊緣與所述相交平面的交線垂直或近似垂直；所述根據所述調整指令將所述第一圖像調整為第二圖像，包括：

將所述第一圖像劃分為預設數量的子圖像，所述預設數量與所述相交平面包含的平面個數相同；

對所述第一圖像的各個子圖像分別進行校準，得到校準后的子圖像，將校準后的子圖像作為第二圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取調整指令，包括：

將所述第一圖像進行投影；

采集所述第一圖像的成像圖像，并判斷所述第一圖像的成像圖像是否達到預設投影要求；

如果所述第一圖像的成像圖像未達到預設投影要求，則觸發調節，獲取調整指令。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述第一圖像劃分為預設數量的子圖像，包括：

確定所述第一圖像在所述相交平面的每個平面上的成像比例；

根據所述第一圖像在所述相交平面的每個平面上的成像比例將所述第一圖像劃分為預設數量的子圖像。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述確定所述第一圖像在所述相交平面的每個平面上的成像比例，包括：

檢測所述第一圖像中與所述相交平面的交線相交的邊緣；

根據所述第一圖像中與所述相交平面的交線相交的邊緣確定所述第一圖像在所述相交平面的每個平面上的成像比例。

5.根據權利要求1、3、4中任一權利要求所述的方法，其特征在于，所述對所述第一圖像的各個子圖像分別進行校準之前，還包括：

預先為所述第一圖像的每個子圖像設置對應的校準矩陣；

所述對所述第一圖像的各個子圖像分別進行校準，包括：

確定預先為所述第一圖像的每個子圖像設置的校準矩陣，并根據所述第一圖像的每個子圖像對應的校準矩陣對所述第一圖像的每個子圖像進行校準。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述預先為所述第一圖像的每個子圖像設置對應的校準矩陣，包括：

確定投影儀到所述相交平面的每個平面的相對距離，并根據所述投影儀到所述相交平面的每個平面的相對距離為所述相交平面的每個平面設置對應的校準矩陣；

確定所述相交平面中與所述第一圖像的每個子圖像對應的平面，并將所述相交平面的每個平面對應的校準矩陣作為投影到所述平面的子圖像對應的校準矩陣。

7.一種投影設備，其特征在于，所述設備包括：

第一獲取模塊，用于獲取第一圖像，所述第一圖像對應第一內容；

第二獲取模塊，用于獲取調整指令；

調整模塊，用于根據所述調整指令將所述第一圖像調整為第二圖像，所述第二圖像包括目標圖像，所述目標圖像對應所述第一內容；

投影模塊，用于將所述第二圖像進行投影；

其中，當所述第二圖像由至少兩個平面形成的相交平面成像時，如果投影后的所述目標圖像的邊緣與所述相交平面的交線相交，則投影后的所述目標圖像的邊緣與所述相交平面的交線垂直或近似垂直；所述調整模塊，包括：

劃分子模塊，用于將所述第一圖像劃分為預設數量的子圖像，所述預設數量與所述相交平面包含的平面個數相同；

校準子模塊，用于對所述第一圖像的各個子圖像分別進行校準，得到校準后的子圖像，將校準后的子圖像作為第二圖像。