[發(fā)明專利]一種基于條紋周期校正的復雜大物體三維測量方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310345986.1
• 申請日: 2013-08-10
• 公開（公告）號: CN103398675A
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發(fā)明（設計）人: 伏燕軍;何興道;江光裕;夏桂鎖
• 申請（專利權）人: 南昌航空大學
• 主分類號: G01B11/25
• 分類號: G01B11/25
• 代理公司: 南昌洪達專利事務所 36111
• 代理人: 劉凌峰

1.?一種基于條紋周期校正的復雜大物體三維測量方法，其測量系統包括投影儀、測量支架、攝像機、計算機、參考平面；其特征是測量方法為：投影儀和攝像機放在測量支架上；投影儀、攝像機分別用導線連接計算機；待測物體放在參考平面上；投影儀和攝像機為同一高度，投影儀光軸和攝像機光軸相交于于一點；?X為參考平面的x軸,?X′為虛擬參考平面的x軸，該平面與投影儀光軸垂直，X′′為投影儀平面的x軸。

2.根據權利要求1所述的一種基于條紋周期校正的復雜大物體三維測量方法，其特征在于：計算機內包含圖像采集卡、投影軟件、測量軟件。

3.根據權利要求1所述的一種基于條紋周期校正的復雜大物體三維測量方法，其特征在于本發(fā)明要做好如下工作：

（1）參考平面上的條紋周期校正方法；

（2）基于條紋周期校正的五步相移法的理論模型；

（3）基于條紋周期校正的時間相位展開法的理論模型；

（4）大物體三維測量的理論模型。

4.根據權利要求3所述的一種基于條紋周期校正的復雜大物體三維測量方法，其特征在于大物體三維測量的理論模型包括：

（1）像點位移誤差的校正；

（2）鏡頭畸變的校正；

（3）建立大物體三維測量的理論模型。