[發(fā)明專(zhuān)利]噴淋頭以及氣相沉積反應(yīng)腔

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310345361.5
• 申請(qǐng)日: 2013-08-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103436857A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田益西;黃允文
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 光壘光電科技（上海）有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/455
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/455
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種噴淋頭，用于向反應(yīng)區(qū)域提供反應(yīng)氣體，所述噴淋頭包括殼體部和密封部，所述殼體部包括相對(duì)間隔設(shè)置的頂板和底板以及多個(gè)第一氣管，所述多個(gè)第一氣管貫穿所述頂板和底板并與所述頂板和底板相互固定，所述反應(yīng)區(qū)域位于所述底板遠(yuǎn)離頂板的一側(cè)；其特征在于：所述殼體部具有開(kāi)口，所述密封部用于密封所述殼體部的開(kāi)口。

2.如權(quán)利要求1所述的噴淋頭，其特征在于，所述開(kāi)口為環(huán)繞所述多個(gè)第一氣管的開(kāi)口，所述密封部為相應(yīng)的環(huán)形密封部。

3.如權(quán)利要求2所述的噴淋頭，其特征在于，所述殼體進(jìn)一步包括側(cè)壁，所述側(cè)壁位于所述頂板與所述底板之間并與所述頂板和底板相連接，所述環(huán)繞多個(gè)第一氣管的開(kāi)口設(shè)置在所述頂板。

4.如權(quán)利要求3所述的噴淋頭，其特征在于，所述頂板背離所述底板一側(cè)的表面具有密封面，所述密封面包括圍繞所述開(kāi)口的第一環(huán)形密封面和位于所述開(kāi)口內(nèi)的第二環(huán)形密封面，所述環(huán)形密封部具有與所述第一環(huán)形密封面和所述第二環(huán)形密封面相對(duì)應(yīng)的第三環(huán)形密封面和第四環(huán)形密封面。

5.如權(quán)利要求2所述的噴淋頭，其特征在于，所述殼體進(jìn)一步包括側(cè)壁；所述側(cè)壁位于所述頂板與所述底板之間并與底板連接，所述頂板與所述側(cè)壁之間形成所述環(huán)繞多個(gè)第一氣管的開(kāi)口。

6.如權(quán)利要求5所述的噴淋頭，其特征在于，所述側(cè)壁遠(yuǎn)離所述底板的端面構(gòu)成所述與所述環(huán)形密封部進(jìn)行密封的第一環(huán)形密封面；所述頂板背離所述底板一側(cè)的表面具有第二環(huán)形密封面，所述第二環(huán)形密封面被所述開(kāi)口環(huán)繞；所述環(huán)形密封部具有與所述第一環(huán)形密封面和所述第二環(huán)形密封面相對(duì)應(yīng)的第三環(huán)形密封面和第四環(huán)形密封面。

7.如權(quán)利要求2所述的噴淋頭，其特征在于，所述頂板外邊緣與所述底板的外邊緣之間構(gòu)成所述環(huán)繞多個(gè)第一氣管的開(kāi)口，所述頂板背離所述底板一側(cè)的表面具有第一環(huán)形密封面，所述第一環(huán)形密封面設(shè)置于所述頂板的邊緣區(qū)域；所述底板朝向所述頂板一側(cè)的表面具有第二環(huán)形密封面，所述第二環(huán)形密封面包繞所述頂板位于所述底板的上的正投影區(qū)域；所述環(huán)形密封部具有與所述第一環(huán)形密封面和所述第二環(huán)形密封面相對(duì)應(yīng)的密封面。

8.如權(quán)利要求7所述的噴淋頭，其特征在于，所述環(huán)形密封部具有倒“L”形截面，所述環(huán)形密封部包括圓筒形的側(cè)壁和環(huán)狀延伸部，所述側(cè)壁包括位于其軸線方向兩端的頂端和底端；所述環(huán)狀延伸部的外邊緣與所述側(cè)壁的頂端連接；所述環(huán)狀延伸部朝向所述底板一側(cè)的表面上具有第三環(huán)形密封面，所述第三環(huán)形密封面與所述第一環(huán)形密封面配合密封；所述側(cè)壁底端的端面上具有第四環(huán)形密封面，所述第四環(huán)形密封面與所述第二環(huán)形密封面配合密封。

9.如權(quán)利要求3、5或8中任一項(xiàng)所述的噴淋頭，其特征在于，所述側(cè)壁、頂板和底板之間的區(qū)域?yàn)闅怏w腔室，所述側(cè)壁設(shè)置有通氣模塊，用于向所述氣體腔室通入反應(yīng)氣體；所述底板設(shè)置有氣體通道，用于使得所述反應(yīng)氣體通過(guò)并到達(dá)所述反應(yīng)區(qū)域。

10.如權(quán)利要求9所述的噴淋頭，其特征在于，所述通氣模塊為穿過(guò)所述側(cè)壁且在圓周方向均勻分布的通孔；或者，所述通氣模塊為內(nèi)嵌于所述側(cè)壁中且環(huán)繞所述側(cè)壁一周的均氣環(huán)，所述均氣環(huán)具有均勻分布的出氣孔，所述出氣孔通向所述氣體腔室，所述勻氣環(huán)還包括進(jìn)氣口，所述進(jìn)氣口輸入的反應(yīng)氣體先進(jìn)入均氣環(huán)中進(jìn)行均布，然后再通過(guò)出氣孔均勻地進(jìn)入所述氣體腔室。

11.如權(quán)利要求4、6或8中任一項(xiàng)所述的噴淋頭，其特征在于，所述第一環(huán)形密封面與第三環(huán)形密封面之間，及第二環(huán)形密封面與第四環(huán)形密封面之間皆設(shè)置有密封墊圈或密封環(huán)。

12.如權(quán)利要求11所述的噴淋頭，其特征在于，所述第一環(huán)形密封面和第二環(huán)形密封面皆包括具有高度差的兩部分，所述第三環(huán)形密封面和第四環(huán)形密封面具有相對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)。

13.如權(quán)利要求7所述的噴淋頭，其特征在于，所述頂板上還間隔設(shè)置有一附加板，所述多個(gè)第一氣管貫穿所述附加板、頂板和底板并與所述附加板、頂板和底板相互固定；所述附加板背離所述頂板一側(cè)的表面具有第五環(huán)形密封面，所述第五環(huán)形密封面設(shè)置于所述附加板的邊緣區(qū)域；所述第一環(huán)形密封面包繞所述附加板位于所述頂板的上的正投影區(qū)域；所述環(huán)形密封部還具有與所述第五環(huán)形密封面相對(duì)應(yīng)的密封面。