[發明專利]10~100μm固體薄膜厚度的測量方法及裝置有效
| 申請號: | 201310343976.4 | 申請日: | 2013-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN103398662A | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發明(設計)人: | 李勝利;崔雪英;敖青 | 申請(專利權)人: | 山東大學 |
| 主分類號: | G01B11/06 | 分類號: | G01B11/06 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人: | 楊琪 |
| 地址: | 250061 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 10 100 固體 薄膜 厚度 測量方法 裝置 | ||
1.10~100μm固體薄膜厚度的測量方法,其特征在于,利用兩片氧化鋁陶瓷夾片夾住裸露的薄膜或涂覆于基底上的薄膜,用繼電器或銣鐵硼磁鐵固定以夾具夾持的氧化鋁陶瓷夾片,并置于維式硬度計的顯微鏡下觀察,氧化鋁陶瓷夾片豎直放置,所述薄膜與氧化鋁陶瓷夾片或基底之間存在襯度差異,利用顯微鏡的微分頭讀出兩片氧化鋁陶瓷夾片之間的距離或靠近薄膜兩側的氧化鋁陶瓷夾片與基底一側之間的距離,即為薄膜厚度。
2.根據權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述薄膜為鐵酸鑭薄膜、錳酸鑭薄膜、鉻酸鑭薄膜、錳酸鋰薄膜或PVC薄膜;所述基底為氧化鋁、鋁箔或二氧化硅。
3.根據權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述薄膜的尺寸小于等于25mm×50mm。
4.根據權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述基底有一平直邊,該平直邊與薄膜接觸,并與其中的一片氧化鋁陶瓷夾片平齊。
5.根據權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述顯微鏡為100倍光學顯微鏡。
6.根據權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述薄膜厚度為形狀厚度,是薄膜的平均厚度;薄膜被夾持在兩片氧化鋁陶瓷夾片的中間時,薄膜的兩個側面與氧化鋁陶瓷夾片直接接觸,薄膜的形狀厚度即為真實厚度。
7.10~100μm固體薄膜厚度的測量裝置,其特征在于,包括由夾具夾持的兩片氧化鋁陶瓷夾片,所述的兩片氧化鋁陶瓷夾片之間夾有裸露的薄膜或涂覆于基底上的薄膜,所述薄膜與氧化鋁陶瓷夾片或基底之間存在襯度差異。
8.根據權利要求7所述的測量裝置,其特征在于,所述的兩片氧化鋁陶瓷夾片的兩側由繼電器或銣鐵硼磁鐵固定。
9.根據權利要求7所述的測量裝置,其特征在于,所述薄膜為鐵酸鑭薄膜、錳酸鑭薄膜、鉻酸鑭薄膜、錳酸鋰薄膜或PVC薄膜,所述薄膜的尺寸小于等于25mm×50mm。
10.根據權利要求7所述的測量裝置,其特征在于,所述基底為氧化鋁、鋁箔或二氧化硅,所述基底有一平直邊,該平直邊與薄膜接觸,并與其中的一片氧化鋁陶瓷夾片平齊。
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