[發明專利]發光裝置的制造方法、發光裝置的色度調整方法及發光裝置的色度調整裝置

在審

• 申請號: 201310343931.7
• 申請日: 2013-08-08
• 公開（公告）號: CN103594566A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發明（設計）人: 吉田武史;石塚勇史
• 申請（專利權）人: 株式會社昭和真空
• 主分類號: H01L33/00
• 分類號: H01L33/00
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所 11276
• 代理人: 宋菲;劉云貴

1.一種發光裝置的制造方法，其特征在于，具有：

搭載發光元件的搭載工序；

搭載熒光體的熒光體搭載工序，該熒光體被所述發光元件發出的光所激發而發出熒光；

使用透光部件封固所述發光元件的封固工序；

使所述發光元件發光，測定與所述熒光混合的混合光的色度的測定工序；以及

根據所述測定的色度，在所述透光部件上形成反射膜的反射膜形成工序，該反射膜具有透光性和比所述透光部件的折射率更大的折射率、且反射所述混合光中的規定波長的光。

2.如權利要求1所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，

針對超出規定的合格色度范圍的發光元件包括反射膜形成工序，在該反射膜形成工序，在所述透光部件的外側表面上以50nm以下的膜厚形成反射膜，該反射膜反射所述混合光中的短波長側的光的規定部分；

根據調整色度，決定所述反射膜的折射率及所述膜厚。

3.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，通過原子層沉積法形成所述反射膜。

4.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，通過濺鍍法或者化學氣相沉積法形成所述反射膜。

5.如權利要求3所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，將通過封固工序形成的多個封固體設置在同一個處理室內，以提供給所述反射膜形成工序。

6.如權利要求4所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，根據事先測定的所述發光裝置的色度，將所述發光裝置進行分組，并將同等色度范圍的所述發光裝置設置在同一處理室內，同時進行處理。

7.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，所述透光部件的折射率與所述反射膜的折射率之差為0.3以上。

8.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，所述發光裝置具有：發出所述短波長側的藍色光的發光二極管元件；以及熒光體，該熒光體被所述藍色光所激起而發出比所述藍色光更高波長側的熒光。

9.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，所述透光部件具有炮彈型形狀。

10.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，所述反射膜的材料是從由TiO₂、ZnO、Ta₂O₅、Nb₂O₅、ZrO₂、HfO₂以及Al₂O₃構成的群組中選出的一種材料。

11.如權利要求1或2所記載的發光裝置的制造方法，其特征在于，所述透光部件具有一層或者多個層，其最外層由硅樹脂形成。

12.一種發光裝置的色度調整方法，該發光裝置射出發光體發出的多色混合光，在射出面上形成有透光部件，該色度調整方法的特征在于，

測定所述發光裝置射出的光的色度；

根據所述色度，在所述透光部件的表面形成反射膜，該反射膜具有透光性和比所述透光部件的折射率更大的折射率、且反射所述發光體發出的光中的規定波長的光。

13.如權利要求12所記載的發光裝置的色度調整方法，其特征在于，針對超出規定的合格色度范圍的發光裝置，在所述透光部件外側表面上以50nm以下的膜厚形成反射膜，該反射膜反射所述發光體發出的光中的短波長側的光的規定的一部分；

根據調整色度來決定所述反射膜的折射率及所述膜厚。

14.一種發光裝置的色度調整裝置，其特征在于，具有：

測定裝置，測定所述發光裝置射出的光的色度；以及

反射膜形成裝置，在所述發光裝置的外側表面上形成反射膜，該反射膜具有透光性且反射由所述反光裝置射出的光中的規定波長的光，

根據所述測定裝置的輸出，決定所述反射膜的折射率及所述膜厚，

所述發光裝置射出發光體發出的多色混合光，在射出面形成透光部件，

所述反射膜的折射率大于所述透光部件的折射率。