[發(fā)明專利]中空顆粒的分散體的制造方法、減反射膜的制造方法和光學(xué)元件的制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310342590.1
• 申請(qǐng)日: 2013-08-08
• 公開（公告）號(hào): CN103570030A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 龜野優(yōu)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C01B33/18
• 分類號(hào): C01B33/18;C03C17/23;C09D1/00
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 李英

1.中空顆粒的分散體的制造方法，該方法包括：

通過在水性介質(zhì)中在主要由有機(jī)化合物制成的顆粒的表面上形成主要由無機(jī)系化合物制成的殼來制備核殼型顆粒，和

通過使核殼型顆粒疏水化并且用芳族有機(jī)溶劑對(duì)核殼型顆粒進(jìn)行抽提而得到由殼形成的中空顆粒的分散體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的中空顆粒的分散體的制造方法，其中核殼型顆粒的平均殼厚度為2nm-10nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的中空顆粒的分散體的制造方法，其中疏水化處理是采用硅烷偶聯(lián)劑和硅烷化劑中的一者的處理。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3的任一項(xiàng)的中空顆粒的分散體的制造方法，其中核殼型顆粒具有20nm-210nm的數(shù)均顆粒直徑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4的任一項(xiàng)的中空顆粒的分散體的制造方法，其中核殼型顆粒中的殼主要由R_ySiO_z表示的單元制成，其中R表示烴基，0≤y≤1，1≤z≤2。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5的任一項(xiàng)的中空顆粒的分散體的制造方法，其中無機(jī)系化合物是硅氧烷化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6的任一項(xiàng)的中空顆粒的分散體的制造方法，其中中空顆粒的多分散指數(shù)為0.200以下。

8.減反射膜的制造方法，該方法包括：

采用根據(jù)權(quán)利要求1-7的任一項(xiàng)的方法得到中空顆粒的分散體；和

通過在基材上涂布中空顆粒的分散體來制備減反射膜。

9.光學(xué)元件的制造方法，該方法包括：

采用根據(jù)權(quán)利要求1-7的任一項(xiàng)的方法得到中空顆粒的分散體；和

通過在光學(xué)元件上涂布中空顆粒的分散體來制備包括減反射膜的光學(xué)元件。