[發(fā)明專利]包括用于沉浸光刻裝置的真空清除的環(huán)境系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310339659.5
• 申請(qǐng)日: 2004-03-29
• 公開（公告）號(hào): CN103439864A
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安德魯·J·黑茲爾頓;邁克爾·瑟高
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社尼康
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 歐陽(yáng)帆

1.一種用于控制光學(xué)組件與器件之間間隙中的環(huán)境的環(huán)境系統(tǒng)，該器件由器件載物臺(tái)保持，該環(huán)境系統(tǒng)包括：

位于器件附近的流體屏障；以及

沉浸流體系統(tǒng)，其輸送充滿間隙的沉浸流體，并且收集直接位于流體屏障與器件和器件載物臺(tái)中至少一個(gè)之間的沉浸流體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障環(huán)繞間隙并且抑制包括流體蒸汽的沉浸流體離開間隙附近的區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障包括位于器件附近的清除入口，并且其中沉浸流體系統(tǒng)包括與清除入口流體連通的低壓源。

4.根據(jù)權(quán)利要求3的環(huán)境系統(tǒng)，還包括在流體屏障與器件和器件臺(tái)中至少一個(gè)之間引導(dǎo)軸承流體以相對(duì)于器件和器件臺(tái)中至少一個(gè)支撐流體屏障的軸承流體源。

5.根據(jù)權(quán)利要求4的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障包括位于器件附近的軸承出口，軸承出口與軸承流體源流體連通，并且其中清除入口比軸承出口更接近間隙。

6.根據(jù)權(quán)利要求4的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障包括位于器件附近的軸承出口，軸承出口與軸承流體源流體連通，并且其中清除入口比軸承出口更遠(yuǎn)離間隙。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的環(huán)境系統(tǒng)，還包括在流體屏障與器件和器件臺(tái)中至少一個(gè)之間引導(dǎo)軸承流體以相對(duì)于器件和器件臺(tái)中至少一個(gè)支撐流體屏障的軸承流體源。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障包括位于器件附近的一對(duì)彼此分隔的清除入口以及軸承出口，其中沉浸流體系統(tǒng)包括與清除入口流體連通的低壓源，并且其中軸承流體源與軸承出口流體連通。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的環(huán)境系統(tǒng)，其中軸承出口位于清除入口之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求7的環(huán)境系統(tǒng)，其中該對(duì)清除入口位置比軸承出口更接近間隙。

11.根據(jù)權(quán)利要求1的環(huán)境系統(tǒng)，還包括使得間隙中的壓力近似等于流體屏障外部壓力的均壓器。

12.根據(jù)權(quán)利要求11的環(huán)境系統(tǒng)，其中均壓器是延伸通過流體屏障的通道。

13.一種用于將圖像傳送到器件的曝光裝置，該曝光裝置包括：光學(xué)組件，保持器件的器件載物臺(tái)，以及根據(jù)權(quán)利要求1的、控制光學(xué)組件與器件之間間隙中環(huán)境的環(huán)境系統(tǒng)。

14.根據(jù)權(quán)利要求13的曝光裝置，其中器件載物臺(tái)包括與器件的器件暴露表面近似處于相同平面中的載物臺(tái)表面。

15.一種制造器件的過程，包括提供襯底并且使用根據(jù)權(quán)利要求13的曝光裝置將圖像傳送到襯底的步驟。

16.一種用于控制光學(xué)組件與器件之間間隙中環(huán)境的環(huán)境系統(tǒng)，該器件由器件載物臺(tái)保持，該環(huán)境系統(tǒng)包括：

位于器件附近的流體屏障；

輸送充滿間隙的沉浸流體的沉浸流體系統(tǒng)；以及

在流體屏障與器件和器件臺(tái)中至少一個(gè)之間引導(dǎo)軸承流體以相對(duì)于器件和器件載物臺(tái)中至少一個(gè)支撐流體屏障的軸承流體源。

17.根據(jù)權(quán)利要求16的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障環(huán)繞間隙并且抑制包括任何流體蒸汽的沉浸流體離開間隙附近的區(qū)域。

18.根據(jù)權(quán)利要求16的環(huán)境系統(tǒng)，其中沉浸流體系統(tǒng)收集直接位于流體屏障與器件和器件載物臺(tái)中至少一個(gè)之間的沉浸流體。

19.根據(jù)權(quán)利要求18的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障包括位于器件附近的清除入口，并且其中沉浸流體系統(tǒng)包括與清除入口流體連通的低壓源。

20.根據(jù)權(quán)利要求16的環(huán)境系統(tǒng)，其中沉浸流體與軸承流體具有不同的成分。

21.根據(jù)權(quán)利要求16的環(huán)境系統(tǒng)，其中沉浸流體與軸承流體具有近似相同的成分。

22.根據(jù)權(quán)利要求16的環(huán)境系統(tǒng)，其中流體屏障包括位于器件附近的軸承出口，軸承出口與軸承流體源流體連通。

23.根據(jù)權(quán)利要求16的環(huán)境系統(tǒng)，還包括使得間隙中的壓力近似等于流體屏障外部壓力的均壓器。

24.根據(jù)權(quán)利要求23的環(huán)境系統(tǒng)，其中均壓器是延伸通過流體屏障的通道。